[实用新型]PECVD设备

权利要求书

1.一种PECVD设备，其特征在于，包括腔室、升降组件、位于所述腔室内的遮蔽架和多个支撑件，所述腔室可封闭，所述支撑件沿所述腔室的内侧壁间隔设置，且各所述支撑件位于同一水平面上，所述遮蔽架搭设在多个所述支撑件上且与所述腔室的内侧壁之间具有间隙，至少部分所述升降组件伸入所述腔室内且可沿竖直方向往复移动，用以使所述遮蔽架搭设在所述升降组件的基板上或搭设在多个所述支撑件上。

2.根据权利要求1所述的PECVD设备，其特征在于，所述支撑件支撑所述遮蔽架的至少相对两侧。

3.根据权利要求1所述的PECVD设备，其特征在于，所述支撑件包括第一连接部和与所述第一连接部连接的第一支撑部，所述第一连接部用于与所述腔室的内侧壁连接，所述第一支撑部朝向所述腔室的中部延伸，所述第一支撑部用于支撑所述遮蔽架。

4.根据权利要求3所述的PECVD设备，其特征在于，还包括第一连接件，所述第一连接件与所述支撑件连接，所述第一连接件位于所述支撑件与所述遮蔽架之间。

5.根据权利要求4所述的PECVD设备，其特征在于，所述第一连接件包括第二连接部和与所述第二连接部连接的第二支撑部，所述第二连接部与所述第一连接部固接，所述第二支撑部覆盖至少部分所述第一支撑部。

6.根据权利要求4所述的PECVD设备，其特征在于，所述第一连接件为陶瓷件。

7.根据权利要求3-6任一项所述的PECVD设备，其特征在于，所述腔室的内侧壁具有多个间隔设置的第二连接件，所述第二连接件与所述支撑件一一对应设置，所述第一连接部通过所述第二连接件与所述腔室的内侧壁连接。

8.根据权利要求7所述的PECVD设备，其特征在于，所述第二连接件背离所述腔室的内侧壁的一面上具有容置槽，所述第一连接部容置于所述容置槽内，且与所述容置槽的底壁固接。

9.根据权利要求8所述的PECVD设备，其特征在于，所述第一连接部上具有至少两个第一连接孔，所述容置槽的底壁具有至少两个第二连接孔，所述第一连接孔与所述第二连接孔一一对应设置，连接件依次穿过所述第一连接孔和所述第二连接孔，以将所述第二连接件和所述支撑件固接于所述腔室的内侧壁上。

10.根据权利要求7所述的PECVD设备，其特征在于，所述第二连接件为陶瓷件。