[实用新型]红外光学薄膜镀膜机

说明书

本实用新型公开了红外光学薄膜镀膜机。在真空室腔体内的上部设置工转架；在下部中心设置等离子体源，等离子体源的左右两侧设置第一、二电子枪；在中部设置第一、二修正板分别固定在第一、二驱动单元的安装杆上，第一、二驱动单元设置在真空室腔体外；在下部还设置布气管道通过布气系统与外界连接；在真空室腔体外安装膜厚仪，探头伸入工转架中；在真空室腔体的侧壁上安装真空计；电子枪、等离子体源、驱动单元、布气系统、真空计和膜厚仪都与控制单元连接。此结构无需加热，膜层设计层数可减少，镀膜时间大大缩短，膜层表面致密性好，耐划伤，耐腐蚀，减少了成本，生产效率提升，使用寿命延长，可应用于红外测温及探测等相关电子产品。

技术领域

本实用新型涉及镜片真空光学镀膜的技术领域，特别涉及红外光学薄膜镀膜机。

背景技术

在传统工艺中，镀制红外光学薄膜主要是利用增加膜层层数做相应的干涉优化，来实现红外光学薄膜的理论设计与优化工作。所使用的镀膜材料一般吸收都比较大、折射率偏低，要依靠镀膜机给镜片的基底加热200℃上才能达到降吸收的目的，而且只能镀制在玻璃基底，对塑胶基底无法镀制。另外产品表面不易保护，使用寿命较短。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种红外光学薄膜镀膜机，以镀制优越于传统性能的红外光学薄膜。

为了实现上述目的，本实用新型的解决方案是：

红外光学薄膜镀膜机，包括真空室腔体、工转架、第一修正板、第二修正板、第一电子枪、第二电子枪、等离子体源、布气系统、真空计、膜厚仪和控制单元；在真空室腔体内的上部设置一可转动的工转架用于承载镜片；在真空室腔体内的下部中心位置设置等离子体源；在真空室腔体内的下部且位于等离子体源的左右两侧设置第一电子枪和第二电子枪；在真空室腔体内的中部对应第一电子枪和第二电子枪的枪口分别设置第一修正板和第二修正板，第一修正板和第二修正板分别固定在第一驱动单元和第二驱动单元的安装杆上，第一驱动单元和第二驱动单元设置在真空室腔体外；在真空室腔体内的下部还设置布气管道，布气管道通过真空室腔体外的布气系统与外界管道连接；在真空室腔体外安装膜厚仪，膜厚仪的探头伸入真空室腔体内的工转架中；在真空室腔体的侧壁上安装真空计；第一电子枪、第二电子枪、等离子体源、第一驱动单元、第二驱动单元、布气系统、真空计和膜厚仪都与控制单元连接。

所述工转架呈倒扣的碗形，底部具有旋转轴与第三驱动单元连接，由第三驱动单元带动工转架进行旋转，第三驱动单元与控制单元连接。

所述第一电子枪和第二电子枪的枪口上方都安装挡板。

采用上述方案后，本实用新型利用双电子枪分离高、低折射率的镀膜方式，同时结合APS源的等离子体辅助技术，以及结合精密的布气系统，来制备高纯度减薄低吸收的人体红外光学薄膜。

使用加工时，镜片基底在高真空状态下，启动第一电子枪和APS等离子体源，利用辅助物理气相沉积原理蒸发高折射率材料五氧化三钛(Ti₃O₅)，同时启动微量布气系统和第一修正板和第一驱动单元(高折射率均匀性修正系统)进行镀制；镀制高折射率五氧化三钛(Ti₃O₅)时，第一电子枪光斑修正源会将光斑调整成一个点，使之对所镀制的材料平稳加热，避免膜料飞溅，在基底成膜的过程中提高材料纯度；高折射率材料镀制完成后，第一电子枪和高折射率均匀性修正系统关闭；开启第二电子枪系统，同时开启对应的第二修正板和第二驱动单元(低折射率均匀性修正系统)，第二电子枪光斑调整为点状直线轨迹扫描方式，对低折射率二氧化硅(SiO₂)进行物理气相沉积，得到膜层致密平整的高纯度二氧化硅薄膜；镀膜机在自动系统控制单元下，反复交替执行高、低折射率材料的镀制步骤，最后完成产品镀制。

本实用新型较传统工艺相比无需加热，膜层设计层数可减少，镀膜时间大大缩短，膜层表面致密性好，耐划伤，耐腐蚀。本实用新型减少了电费成本的损耗，生产效率有很大的提升，产品使用寿命较之前有所延长。此产品可应用于红外测温及探测等相关电子产品。