[实用新型]一种蒸发台有效
申请号: | 202022055814.9 | 申请日: | 2020-09-18 |
公开(公告)号: | CN213084836U | 公开(公告)日: | 2021-04-30 |
发明(设计)人: | 张军委;钱军;王福平 | 申请(专利权)人: | 爱发科真空技术(苏州)有限公司 |
主分类号: | B65H5/18 | 分类号: | B65H5/18;B65H37/00;G01B21/08;G01B21/00 |
代理公司: | 北京同恒源知识产权代理有限公司 11275 | 代理人: | 阴知见 |
地址: | 215000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 蒸发 | ||
本实用新型公开了一种蒸发台,包括:衬底载体,所述衬底载体具有一镂空开口;回转机构,所述回转机构与所述衬底载体连接,所述回转机构包括回转密封外层、回转密封中层、回转密封内层,所述回转密封内层为空心结构,所述回转密封内层与所述衬底载体的镂空开口对应;且,所述回转密封中层可在所述回转密封外层与所述回转密封内层之间转动;驱动机构,所述驱动机构与所述回转机构连接,且,所述驱动机构驱动所述回转机构转动。本实用新使用双层回转密封结构取代轴心驱动的方式,规避了中间位置支撑条遮挡传感器的问题,使得测定结果准确,工艺设定更为直接,更为高效。
技术领域
本实用新型涉及蒸发台技术领域,特别涉及一种蒸发台。
背景技术
在蒸发台公转设备机构中,为测定蒸发生成的膜厚,常匹配固有频率动态测定传感器。该传感器的安装位置对膜厚测定结果准确程度至关重要,传感器安装在衬底载体中心位置时,传感器既不能遮挡衬底影响沉膜,也不能影响衬底载体的转动。现有技术固有频率测定传感器,安装位置在中间侧,因受到衬底载体转动的影响,安装在载体转动机构的上方,转动机构旋转轴位于衬底载体正中心,旋转轴与衬底载体通过3-4根支撑条连接,这样衬底载体通过支撑条沿转动结构旋转轴,圆周运动。传感器处于衬底载体上方,传感器通过旋转轴与衬底载体之间支撑条镂空位置进行固有频率测定,通过换算计算膜厚。实际膜厚=计算膜厚x校正系数。需要校正系数的直接原因是旋转轴与衬底载体通过3-4根支撑条。因生产工艺需求,设定参数会经常有变动。但工艺条件任一个参数变更就会导致传感器校正系数变动,校正系数的不确定性导致了测定结果的不准确。
实用新型内容
基于此,有必要提供一种蒸发台,使用蒸发台取代轴心驱动的方式,规避了中间位置支撑条遮挡传感器的问题,使得测定结果准确,工艺设定更为直接,更为高效。
本实用新型保护一种蒸发台,包括:
衬底载体,所述衬底载体具有一镂空开口;
回转机构,所述回转机构与所述衬底载体连接,所述回转机构包括回转密封外层、回转密封中层、回转密封内层,所述回转密封内层为空心结构,所述回转密封内层与所述衬底载体的镂空开口对应;且,所述回转密封中层可在所述回转密封外层与所述回转密封内层之间转动;
驱动机构,所述驱动机构与所述回转机构连接,且,所述驱动机构驱动所述回转机构转动。
在一些实施例中,所述回转密封外层与所述回转密封中层之间设置有外层轴承,所述回转密封中层与所述回转密封内层之间设置有内层轴承连接。
在一些实施例中,所述回转密封外层与所述回转密封中层之间设置有外层磁液。
在一些实施例中,所述回转密封中层与所述回转密封内层之间设置有内层双道磁液。
在一些实施例中,所述回转密封内层顶部设置有中心密封压板,所述中心密封压板中部设置有传感器,所述传感器延申至所述回转密封内层底部。
在一些实施例中,所述驱动机构包括驱动件、与所述驱动件连接的驱动同步带轮、设置于所述回转密封中层上的从动同步带轮,以及一端与所述驱动同步带轮连接,另一端与所述从动同步带轮连接的驱动同步带。
在一些实施例中,所述驱动件包括驱动电机。
实施本实用新型的一种蒸发台至少具有以下有益效果:
该种蒸发台使用双层回转密封结构取代轴心驱动的方式,规避了中间位置支撑条遮挡传感器的问题,使得测定结果准确,工艺设定更为直接,更为高效。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
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