[实用新型]一种冷壁法CVD沉积装置有效
| 申请号： | 202022042738.8 | 申请日： | 2020-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN213327826U | 公开（公告）日： | 2021-06-01 |
| 发明（设计）人： | 李长栋;魏承亚;魏茂奎 | 申请（专利权）人： | 山东沐东真空科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/458 | 分类号： | C23C16/458;C23C16/44 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 252000 山东省聊城市*** | 国省代码： | 山东;37 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 冷壁法 cvd 沉积 装置 | ||
1.一种冷壁法CVD沉积装置，包括底座(2)、沉积管(4)、马达(6)和弹性块(12)，其特征在于：所述底座(2)的底表面固定安装有沉积箱(3)，沉积箱(3)的顶端内部贯穿安装有沉积管(4)，所述沉积管(4)的内部中间固定安装有轴座(10)，轴座(10)中间设有框架(9)，且框架(9)通过轴杆(8)转动安装在轴座(10)的中间，所述框架(9)的内部开设有嵌口(11)，嵌口(11)的内部一侧开设有第二凹口(15)，嵌口(11)的内部另一侧设有第一凹口(14)，第一凹口(14)开设在抵板(13)的内部。
2.根据权利要求1所述的一种冷壁法CVD沉积装置，其特征在于：所述抵板(13)的固定安装在弹性块(12)的一端，弹性块(12)的另一端固定安装在嵌口(11)的内部一侧。
3.根据权利要求1所述的一种冷壁法CVD沉积装置，其特征在于：所述弹性块(12)由内柱插入套柱内组成，并且在套柱内部固定安装有弹簧。
4.根据权利要求1所述的一种冷壁法CVD沉积装置，其特征在于：所述底座(2)的底表面设有万向轮(1)，且万向轮(1)设有四个，四个万向轮(1)呈矩形分布。
5.根据权利要求1所述的一种冷壁法CVD沉积装置，其特征在于：所述轴杆(8)的一端套有皮带(7)的一端，皮带(7)的另一端套在马达(6)的输出端，且马达(6)固定安装在沉积箱(3)的顶端内部。
6.根据权利要求1所述的一种冷壁法CVD沉积装置，其特征在于：所述马达(6)和沉积管(4)之间固定安装有隔板(5)，隔板(5)的内部填充有玻璃纤维。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于山东沐东真空科技有限公司，未经山东沐东真空科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202022042738.8/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种用于磁控溅射设备的旋转样品台
- 下一篇：一种椭圆形漏粉装置
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
