[实用新型]一种用于石英晶片加工的清洗收集装置

说明书

本实用新型涉及石英晶片加工技术领域，且公开了一种用于石英晶片加工的清洗收集装置，包括壳体，所述壳体的内部设置有清洗框架，所述清洗框架的两端均固定安装有同步柱，所述同步柱的另一端贯穿壳体的侧面壁并固定连接有同步板，所述同步板的底端搭接有凸轮，所述凸轮传动连接有驱动电机的输出端，所述驱动电机固定安装于壳体的侧面。该用于石英晶片加工的清洗收集装置，通过设置清洗框架、同步板、凸轮、弹簧柱、超声波清洗器和驱动电机等结构，使得在超声波清洗器清洗的前提下，能够对石英晶片进行抖动清洗，从而增加清洗的效果，具备清洗效果好等优点，解决了现有的清洗效果一般的问题。

技术领域

本实用新型涉及石英晶片加工技术领域，具体为一种用于石英晶片加工的清洗收集装置。

背景技术

目前，石英晶片的加工过程是先将晶砣切割成一个个石英晶片，然后再将这些石英晶片进行封装成半导体晶片，在对石英晶片加工时需要用到清洗收集装置。

而现有的大部分用于石英晶片加工的清洗收集装置，在进行清洗时只能单个单个的清洗，或是人工进行清洗，效率不高且费时费力，具有一定的局限性，因此我们提出一种用于石英晶片加工的清洗收集装置，用于解决上述技术问题。

实用新型内容

（一）解决的技术问题

针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种用于石英晶片加工的清洗收集装置，具备清洗效果好等优点，解决了现有的清洗效果一般的问题。

（二）技术方案

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种用于石英晶片加工的清洗收集装置，包括壳体，所述壳体的内部设置有清洗框架，所述清洗框架的两端均固定安装有同步柱，所述同步柱的另一端贯穿壳体的侧面壁并固定连接有同步板，所述同步板的底端搭接有凸轮，所述凸轮传动连接有驱动电机的输出端，所述驱动电机固定安装于壳体的侧面，所述凸轮的前后两侧底端均铰接有弹簧柱，所述弹簧柱的另一端固定连接有限制板，所述清洗框架的正面设置有超声波清洗器。

所述清洗框架的内部开设有清洗槽，所述清洗槽的前后两侧均安装有固定板，所述固定板相邻的一侧均固定安装有清洗刷，所述固定板相远离的一侧均固定安装有移动柱，所述移动柱的另一端贯穿清洗槽的外侧壁并螺纹连接有螺纹杆，所述螺纹杆的另一端外表面固定连接有联动齿轮，所述联动齿轮的侧面啮合连接有联动杆，所述联动杆的顶端传动连接有联动机构，所述联动机构的另一侧传动连接有调节钮。

优选的，所述限制板与壳体固定连接，且所述限制板对称分布于壳体的两侧。

限制板用于对弹簧柱进行支撑，使得弹簧柱能够带动同步板进行复位，从而实现同步板的往复移动。

优选的，所述调节钮贯穿清洗框架的内侧壁并固定连接有调节转把，所述调节转把的外表面设置有防滑纹。

拧动调节转把即可带动调节钮进行转动，同时防滑纹的设置方便了对调节转把的旋转。

优选的，所述清洗槽的数量为若干个，且所述清洗槽均匀分布于清洗框架的内部。

若干个清洗槽的设置使得能够同时对多个石英晶片进行清洗，以此提高清洗的效率与效果。

优选的，所述同步柱为L型杆，且所述同步柱与同步板接触端的高度高于清洗框架的高度。

同步柱设置为L型杆改变了同步柱贯穿的位置，从而避免同步柱的贯穿导致清洗液的泄露，进而保证清洗时壳体的密封性。

优选的，所述清洗框架与移动柱接触处设置有密封结构，且所述密封结构与移动柱位置相适配。

密封结构用于保证清洗框架的密封性，从而防止清洗液渗入清洗框架中。

与现有技术相比，本实用新型提供了一种用于石英晶片加工的清洗收集装置，具备以下有益效果：