[实用新型]一种双向内外打磨系统有效
| 申请号: | 202022009588.0 | 申请日: | 2020-09-15 |
| 公开(公告)号: | CN213380629U | 公开(公告)日: | 2021-06-08 |
| 发明(设计)人: | 戚觊;许志辉;周祥;张斌杰 | 申请(专利权)人: | 上海前山管道技术有限公司 |
| 主分类号: | B24B5/40 | 分类号: | B24B5/40;B24B5/36;B24B5/35;B24B41/06;B24B47/22;B24B41/04;B24B47/12;B24B47/20 |
| 代理公司: | 上海唯源专利代理有限公司 31229 | 代理人: | 汪家瀚 |
| 地址: | 201607 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 双向 内外 打磨 系统 | ||
1.一种双向内外打磨系统,其特征在于,包括:
支撑座,所述支撑座安装在地面上;
第一打磨机,所述第一打磨机设置在所述支撑座的第一侧;
第二打磨机,所述第二打磨机设置在所述支撑座上与所述第一侧相对的第二侧;
管子支撑系统,所述管子支撑系统设置在所述支撑座上,且位于所述第一打磨机和所述第二打磨机之间;
其中,
所述支撑座包括底座,且至少在所述支撑座上设置所述第一打磨机和所述第二打磨机的位置处设置有线性导轨,所述线性导轨设置在所述底座上;
所述第一打磨机和所述第二打磨机各自包括第一打磨机构、第二打磨机构、机架和行走机构;所述机架可滑动地设置在所述线性导轨上,所述第一打磨机构和所述第二打磨机构均设置在所述机架上并随着所述机架运动;所述第一打磨机构被配置为对待加工管子的外端面进行打磨,所述第二打磨机构被配置为对所述待加工管子的内端面进行打磨;所述行走机构设置在所述线性导轨的端部,并被配置为能够驱动所述机架沿着所述线性导轨的长度方向移动。
2.如权利要求1所述的双向内外打磨系统,其特征在于,所述行走机构包括第一伺服电机、电磁离合器齿轮和滚珠丝杆,所述第一伺服电机设置在所述线性导轨的端部并与所述电磁离合器齿轮连接,所述电磁离合器齿轮与所述滚珠丝杆的一端连接,所述滚珠丝杆与所述机架啮合。
3.如权利要求1所述的双向内外打磨系统,其特征在于,所述第一打磨机构包括第一打磨头和驱动所述第一打磨头的第三动力部件,所述第一打磨头被配置为在所述第三动力部件的驱动下对所述待加工管子的外端面进行打磨;
所述第二打磨机构包括第二打磨头和驱动所述第二打磨头的第五动力部件,所述第二打磨头被配置为在所述第五动力部件的驱动下对所述待加工管子的内端面进行打磨。
4.如权利要求3所述的双向内外打磨系统,其特征在于,所述第一打磨机和所述第二打磨机还各自包括第一移动机构,用于分别驱动所述第一打磨机构和所述第二打磨机构沿着垂直于所述线性导轨的方向往复运动;所述第一移动机构包括第一动力部件以及与所述线性导轨垂直的第一直线导轨;所述第一打磨机构和所述第二打磨机构分别通过第一安装板可滑动地设置在所述第一直线导轨上。
5.如权利要求4所述的双向内外打磨系统,其特征在于,所述第一打磨机和所述第二打磨机还各自包括第二移动机构,用于驱动所述第二打磨机构沿着平行于所述线性导轨的方向往复运动;所述第二移动机构包括与所述第一直线导轨垂直的第二直线导轨,所述第二直线导轨设置在所述第一安装板上,所述第二打磨机构通过第二安装板可滑动地设置在所述第二直线导轨上。
6.如权利要求5所述的双向内外打磨系统,其特征在于,所述第二移动机构还包括第三直线导轨、滑块和滑槽,所述第三直线导轨与所述第一直线导轨平行,并设置在所述机架上;所述滑槽设置在所述第二安装板上,所述滑槽包括呈钝角的第一段和第二段;所述滑块可滑动地设置在所述第三直线导轨上,所述滑块的一部分设置在所述滑槽内,所述滑块被配置为在第二动力部件的驱动下沿着所述第三直线导轨运动,所述滑块通过与所述滑槽的配合驱动所述第二安装板沿所述第二直线导轨的长度方向运动。
7.如权利要求3所述的双向内外打磨系统,其特征在于,所述第一打磨机构和所述打磨机构均包括第一微调机构,所述第一微调机构用于调整所述打磨头与所述待加工管子的位置;所述第一微调机构包括动力部件、与所述动力部件连接的丝杆、以及与所述丝杆啮合的螺母。
8.如权利要求1所述的双向内外打磨系统,其特征在于,所述第一打磨机和所述第二打磨机还各自包括夹钳机构,所述夹钳机构设置在所述打磨机构与所述管子支撑系统之间,并设置在所述机架上,所述夹钳机构被配置为能够夹紧所述待加工管子。
9.如权利要求1所述的双向内外打磨系统,其特征在于,所述管子支撑系统包括支架和支撑辊轮,所述支架的底部与所述支撑座连接,所述支撑辊轮设置在所述支架的顶部。
10.如权利要求9所述的双向内外打磨系统,其特征在于,所述管子支撑系统还包括第二微调机构,所述第二微调机构包括伺服电机,并被配置为在所述伺服电机的驱动下调整所述支架距离所述支撑座的高度。
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