[实用新型]一种用于支撑化学气相沉积圆盘基片的工装

说明书

本实用新型属于化学气相沉积设备技术领域，公开一种用于支撑化学气相沉积圆盘基片的工装。包括托架和支座；托架包括两个L型板，L型板的竖板和横板的两自由端的边棱上均匀开设有凹槽；支座包括两个支撑架，支撑架呈U型或H型；两个支撑架前后对称间隔布置，两个L型板分别左右对称连接在两个支撑架之间。本实用新型工装结构设计合理，使用该工装将圆盘基片垂直放置于化学气相沉积炉内，对沉积室内流场影响小，使用工装沉积后的产品涂层包覆率高等优点。

技术领域

本实用新型属于化学气相沉积设备技术领域，具体涉及一种用于支撑化学气相沉积圆盘基片的工装。

背景技术

化学气相沉积是一种利用气相源物质在一定的温度、一定的真空度条件下在工件表面或沉积空间内发生化学反应形成固态物质并沉积到工件表面的一种表面处理技术。目前CVD技术可以制备各种化合物包括碳化物、氮化物、硼化物、氧化物等，在机械、电子、能源、航空航天等行业发挥着巨大作用。

沉积空间流场的均匀性对于工件表面成膜质量也有很大的影响，沉积空间流场不均匀会导致工件厚度不均匀、盲区较大等。另外，化学气相沉积按照温度来分，可分为高温化学气相沉积技术、中温化学气相沉积技术、等离子体增强化学气相沉积技术。高温化学气相沉积技术沉积温度一般在900℃以上，比如碳化硼沉积温度在1200-1300℃，碳化硅沉积温度在1000-2000℃，碳化锆沉积温度在1000-1500℃。温度越高，对承载工件的工装性能要求越高，尤其是耐腐蚀性能以及耐高温性能。

实用新型内容

针对现有技术的不足，本实用新型的目的旨在提供一种用于支撑化学气相沉积圆盘基片的工装。

为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案如下：

一种用于支撑化学气相沉积圆盘基片的工装，包括托架和支座；

所述托架包括两个L型板，L型板的竖板和横板的两自由端的边棱上均匀开设有凹槽；

所述支座包括两个支撑架，支撑架呈U型或H型；

两个支撑架前后对称间隔布置，两个L型板按照连接方式①或连接方式②分别左右对称连接在两个支撑架之间；

所述连接方式①为：当支撑架呈U型或H型时，两个L型板左右对称分别设在两个支撑架的顶端并且L型板的竖板在外、横板在内、凹槽开口朝内；

所述连接方式②为：当支撑架呈H型时，两个L型板分别一体成型在两个支撑架的左右两上端之间并且L型板的横板与H型支撑架的横向支撑杆为一体、L型板的竖板与H型支撑架的竖向支撑杆为一体。

进一步地，所述托架和支座采用等静压石墨材质制成。本实用新型使用等静压石墨材质制成的工装，耐高温、耐腐蚀。

较好地，L型板的两个板面同时为实心板、同时为中空板或者一个板面为实心板，另一个板面则为中空板。中空板可以节约工装制作成本。

较好地，所述凹槽的横截面为外窄内宽的梯形。梯形凹槽与圆盘基片之间接触面积小，可减小沉积的盲区，使圆盘制品沉积更加均匀。

较好地，连接方式①中，当两个L型板左右对称分别设在两个支撑架的顶端时，L型板的横板的自由端分别设在与其同侧的两个支撑架的竖向支撑杆顶端。

较好地，L型板的横板的自由端与两个支撑架的竖向支撑杆顶端之间通过螺栓连接。螺栓连接保证托架与支座之间可拆卸，可通过更换不同尺寸的托架以适应不同尺寸的圆盘基片。

较好地，螺栓顶部设有螺栓盖，以避免化学气相沉积物沉积在螺栓上。