[实用新型]一种应用于MOCVD新型液态源气化系统的载气装置有效
| 申请号: | 202021842376.4 | 申请日: | 2020-08-28 |
| 公开(公告)号: | CN213013086U | 公开(公告)日: | 2021-04-20 |
| 发明(设计)人: | 孙飞 | 申请(专利权)人: | 苏州尚勤光电科技有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
| 代理公司: | 江苏昆成律师事务所 32281 | 代理人: | 刘尚轲 |
| 地址: | 215000 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 应用于 mocvd 新型 液态 气化 系统 装置 | ||
1.一种应用于MOCVD新型液态源气化系统的载气装置,包括:载气管路(1)、液态源管路(2)、蒸发器(3)、蒸发器管路(4)、第一辅助管路(8)、第二辅助管路(11)、第三辅助管路(12)、第四辅助管路(13)、真空管路(9)和工艺室(5),载气管路(1)连接蒸发器(3),蒸发器(3)连接蒸发器管路(4),蒸发器管路(4)连接工艺室(5),液态源管路(2)连接蒸发器(3),其特征在于:液态源管路(2)还连接第二辅助管路(11)、第三辅助管路(12)和真空管路(9)的输入端,第二辅助管路(11)的输出端连接有蒸发器(3),第三辅助管路(12)的输出端连接有蒸发器管路(4),第四辅助管路(13)的输入端连接有蒸发器(3),第四辅助管路(13)的输出端连接有真空管路(9),第一辅助管路(8)的输入端连接载气管路(1),第一辅助管路(8)的输出端连接液态源管路(2)。
2.如权利要求1所述的应用于MOCVD新型液态源气化系统的载气装置,其特征在于:载气管路(1)上设有气体质量流量控制器(6),气体质量流量控制器(6)用于测量和控制载气的流量。
3.如权利要求1所述的应用于MOCVD新型液态源气化系统的载气装置,其特征在于:载气管路(1)、液态源管路(2)和蒸发器管路(4)上均设有一个或多个电动气动阀。
4.如权利要求1所述的应用于MOCVD新型液态源气化系统的载气装置,其特征在于:液态源管路(2)上设有液体质量流量控制器(7),液体质量流量控制器(7)用于测量和控制液态源的流量。
5.如权利要求1所述的应用于MOCVD新型液态源气化系统的载气装置,其特征在于:液态源为三氯氢硅、三甲基镓和三甲基铝中的一种,载气为氮气、氢气或氩气中的一种。
6.如权利要求1所述的应用于MOCVD新型液态源气化系统的载气装置,其特征在于:液态源为沸点在0℃~200℃范围内的液态源。
7.如权利要求1所述的应用于MOCVD新型液态源气化系统的载气装置,其特征在于:载气管路(1)、液态源管路(2)、蒸发器管路(4)、第一辅助管路(8)、第二辅助管路(11)、第三辅助管路(12)、第四辅助管路(13)和真空管路(9)的材质为不锈钢。
8.如权利要求1所述的应用于MOCVD新型液态源气化系统的载气装置,其特征在于:真空管路(9)上设有氦气检漏阀(10)。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





