[实用新型]一种基于半导体蚀刻机用自动吸尘装置有效

专利信息
申请号: 202021805215.8 申请日: 2020-08-26
公开(公告)号: CN213103724U 公开(公告)日: 2021-05-04
发明(设计)人: 陈霞 申请(专利权)人: 陈霞
主分类号: B08B15/04 分类号: B08B15/04;H01L21/67
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 511400 广东省广州市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 半导体 蚀刻 自动 吸尘 装置
【说明书】:

实用新型涉及半导体蚀刻机技术领域,具体为一种基于半导体蚀刻机用自动吸尘装置,包括机体和鼓风机,所述机体的一侧固定连接有吸风机构,所述收集仓一端的表面安装有鼓风机,所述收集仓另一侧的表面开设有出灰口,所述收集仓的一侧设置有第一连通管,所述第一连通管另一侧的两端皆安装有吸风管件,所述吸风管件的表面均匀开设有吸风口。本实用新型用户仅需要简单的将鼓风机开启,则可快速的对外界灰尘进行吸收,该装置对按钮起到一定的防护效果,避免传统装置按钮直接暴露在外界,用户在需要对装置进行正常开启时,直接对按钮进行按动,用户直接按动按钮,长时间操作易对按钮造成一定的损坏。

技术领域

本实用新型涉及半导体蚀刻机技术领域,具体为一种基于半导体蚀刻机用自动吸尘装置。

背景技术

光导体蚀刻机又称光导体刻蚀机,是干法刻蚀中最常见的一种形式,其作用原理是将暴露在电子区域的气体形成等离子体,由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体,从而形成等离子,电离气体原子通过电场加速时,会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面;

大多数到光导体蚀刻机加工条件要求必须远离灰尘较大的场所,要求加工环境无尘化,但现有大多数蚀刻机不具有一定的吸尘设备,操作人员在加工生产时,向蚀刻机内部添加光导体进行加工,打开机体的门仓,在添加过程常常会携带一定的粉尘进入装置内部,长时间的操作,灰尘在装置内部留滞,会严重影响导光板的正常蚀刻。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种基于半导体蚀刻机用自动吸尘装置,以解决上述背景技术中提出的现有大多数蚀刻机不具有一定的吸尘设备,操作人员在加工生产时,向蚀刻机内部添加光导体进行加工,打开机体的门仓,在添加过程常常会携带一定的粉尘进入装置内部,长时间的操作,灰尘在装置内部留滞,会严重影响导光板的正常蚀刻的问题。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种基于半导体蚀刻机用自动吸尘装置,包括机体和鼓风机,所述机体的一侧固定连接有吸风机构,且吸风机构包括收集仓,所述收集仓一端的表面安装有鼓风机,并且鼓风机的吸风端穿过收集仓延伸至收集仓的内部,所述收集仓另一侧的表面开设有出灰口,且出灰口远离收集仓一侧的表面插设有塞件,所述收集仓的一侧设置有第一连通管,且第一连通管靠近收集仓的一侧安装有第二连通管,并且第二连通管的内部与第一连通管的内部相连通,所述第二连通管的一端穿过收集仓延伸至收集仓的内部,所述第一连通管另一侧的两端皆安装有吸风管件,且吸风管件的内部与第一连通管的内部相连通,所述吸风管件的表面均匀开设有吸风口,所述机体的表面安装有两组按钮,且按钮的表面皆套设有防护机构,并且防护机构皆与机体的表面固定连接。

优选的,所述收集仓的内部设置有过滤板,且过滤板的四周皆与收集仓的内部固定连接,且过滤板一侧的表面与鼓风机的吸风端相靠近。

优选的,所述收集仓一端的内壁呈圆锥形漏斗状,所述收集仓内壁一端的口径小于收集仓另一端内壁的口径。

优选的,所述塞件一侧的表面胶合有密封垫,且密封垫的表面与出灰口的内壁紧密贴合。

优选的,所述防护机构包括安装圈,所述安装圈的一侧与机体的表面固定连接,所述安装圈另一侧的表面设置有固定圈,且固定圈的一侧延伸至安装圈的内部,所述固定圈另一侧的表面胶合有塑料套,且塑料套的内部设置有抵触块,并且抵触块的一端与塑料套的内壁固定连接,所述抵触块另一端的表面与按钮相互抵触。

优选的,所述抵触块的表面套设有弹簧,所述弹簧的一端与塑料套的内壁固定连接,所述弹簧的另一端与抵触块的表面固定连接。

优选的,所述抵触块与按钮相互靠近一侧的表面胶合有橡胶垫,且橡胶垫的外形呈凸状。

优选的,所述安装圈的内壁开设有内螺纹,所述固定圈的表面开设有外螺纹。

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