[实用新型]一种基于半导体蚀刻机用自动吸尘装置

权利要求书

1.一种基于半导体蚀刻机用自动吸尘装置，包括机体（1）和鼓风机（22），其特征在于：所述机体（1）的一侧固定连接有吸风机构（2），且吸风机构（2）包括收集仓（21），所述收集仓（21）一端的表面安装有鼓风机（22），并且鼓风机（22）的吸风端穿过收集仓（21）延伸至收集仓（21）的内部，所述收集仓（21）另一侧的表面开设有出灰口（24），且出灰口（24）远离收集仓（21）一侧的表面插设有塞件（25），所述收集仓（21）的一侧设置有第一连通管（26），且第一连通管（26）靠近收集仓（21）的一侧安装有第二连通管（27），并且第二连通管（27）的内部与第一连通管（26）的内部相连通，所述第二连通管（27）的一端穿过收集仓（21）延伸至收集仓（21）的内部，所述第一连通管（26）另一侧的两端皆安装有吸风管件（28），且吸风管件（28）的内部与第一连通管（26）的内部相连通，所述吸风管件（28）的表面均匀开设有吸风口（29），所述机体（1）的表面安装有两组按钮（4），且按钮（4）的表面皆套设有防护机构（3），并且防护机构（3）皆与机体（1）的表面固定连接。

2.根据权利要求1所述的一种基于半导体蚀刻机用自动吸尘装置，其特征在于：所述收集仓（21）的内部设置有过滤板（23），且过滤板（23）的四周皆与收集仓（21）的内部固定连接，且过滤板（23）一侧的表面与鼓风机（22）的吸风端相靠近。

3.根据权利要求1所述的一种基于半导体蚀刻机用自动吸尘装置，其特征在于：所述收集仓（21）一端的内壁呈圆锥形漏斗状，所述收集仓（21）内壁一端的口径小于收集仓（21）另一端内壁的口径。

4.根据权利要求1所述的一种基于半导体蚀刻机用自动吸尘装置，其特征在于：所述塞件（25）一侧的表面胶合有密封垫，且密封垫的表面与出灰口（24）的内壁紧密贴合。

5.根据权利要求1所述的一种基于半导体蚀刻机用自动吸尘装置，其特征在于：所述防护机构（3）包括安装圈（31），所述安装圈（31）的一侧与机体（1）的表面固定连接，所述安装圈（31）另一侧的表面设置有固定圈（32），且固定圈（32）的一侧延伸至安装圈（31）的内部，所述固定圈（32）另一侧的表面胶合有塑料套（33），且塑料套（33）的内部设置有抵触块（34），并且抵触块（34）的一端与塑料套（33）的内壁固定连接，所述抵触块（34）另一端的表面与按钮（4）相互抵触。

6.根据权利要求5所述的一种基于半导体蚀刻机用自动吸尘装置，其特征在于：所述抵触块（34）的表面套设有弹簧，所述弹簧的一端与塑料套（33）的内壁固定连接，所述弹簧的另一端与抵触块（34）的表面固定连接。

7.根据权利要求5所述的一种基于半导体蚀刻机用自动吸尘装置，其特征在于：所述抵触块（34）与按钮（4）相互靠近一侧的表面胶合有橡胶垫，且橡胶垫的外形呈凸状。

8.根据权利要求5所述的一种基于半导体蚀刻机用自动吸尘装置，其特征在于：所述安装圈（31）的内壁开设有内螺纹，所述固定圈（32）的表面开设有外螺纹。