[实用新型]一种印章及压印装置有效

专利信息
申请号: 202021696814.0 申请日: 2020-08-14
公开(公告)号: CN213035515U 公开(公告)日: 2021-04-23
发明(设计)人: 李卫士;雷玫;徐甜;冯晓甜;李伟龙 申请(专利权)人: 华天慧创科技(西安)有限公司
主分类号: B41K1/02 分类号: B41K1/02;B41K1/38;B41K1/36;G03F7/00
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 马贵香
地址: 710018 陕西省西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 印章 压印 装置
【权利要求书】:

1.一种印章,其特征在于,所述印章的下表面上纵横排列有若干个面型孔(5),所述面型孔(5)为向印章内部凹陷的圆弧面;

列的面型孔(5)相隔一列填充有胶体(3),行的面型孔(5)相隔一行填充有胶体(3);

填充在面型孔(5)中的胶体(3)有部分溢出。

2.根据权利要求1所述的一种印章,其特征在于,所述面型孔(5)的部分胶体(3)为圆形或矩形。

3.根据权利要求1所述的一种印章,其特征在于,所述胶体(3)为环氧树脂类紫外固化胶。

4.一种压印装置,其特征在于,包括权利要求1所述的印章(1)和基底(2),印章(1)在基底(2)的上方,基底(2)上有残留层(4)。

5.根据权利要求4所述的一种压印装置,其特征在于,所述残留层(4)的厚度为小于15μm。

6.根据权利要求4所述的一种压印装置,其特征在于,所述残留层(4)的厚度为3-5μm。

7.根据权利要求4所述的一种压印装置,其特征在于,所述残留层(4)上有阵列的面型(6)。

8.根据权利要求7所述的一种压印装置,其特征在于,面型(6)为凸出的弧面,所述面型(6)的弧度和面型孔(5)相匹配。

9.根据权利要求4所述的一种压印装置,其特征在于,所述基底(2)为玻璃材质。

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