[实用新型]连续型纳米薄膜制备用气相沉积设备

权利要求书

1.连续型纳米薄膜制备用气相沉积设备，其特征在于：包括导气机构(1)、密封卡条(2)、齿形皮带轮(3)、齿形皮带(4)、定位槽(5)和支撑机构(6)，

所述支撑机构(6)的上端面滑动卡接有导气机构(1)，且位于所述支撑机构(6)的内端面对称转动卡接有齿形皮带轮(3)，且位于所述齿形皮带轮(3)的外端面转动啮合连接有齿形皮带(4)，所述齿形皮带(4)的外端面均匀等距开设有用于定位的定位槽(5)，且位于相邻两组所述定位槽(5)之间固定连接有密封卡条(2)。

2.根据权利要求1所述的连续型纳米薄膜制备用气相沉积设备，其特征在于：所述导气机构(1)包括螺纹套筒(101)、连接齿轮(102)和导气杆(103)，所述螺纹套筒(101)的底端面转动套接有用于传动的连接齿轮(102)，且位于所述螺纹套筒(101)的底端面中心处固定连接有导气杆(103)。

3.根据权利要求2所述的连续型纳米薄膜制备用气相沉积设备，其特征在于：所述支撑机构(6)包括固定板(601)、固定壳体(602)、固定电机(603)、传动齿轮(604)、导向杆(605)、密封卡环(606)和支撑电机(607)，所述固定壳体(602)的上端面中心处固定连接有密封卡环(606)，且位于所述固定壳体(602)的上端面靠近所述密封卡环(606)处对称固定连接有导向杆(605)，所述固定壳体(602)的上端面正对于所述密封卡环(606)处固定连接有固定电机(603)，且位于所述固定电机(603)的上端面中心处固定安装有传动齿轮(604)，所述固定壳体(602)的侧端面对称固定卡接有用于支撑的固定板(601)，且位于所述固定板(601)的侧端面固定卡接有支撑电机(607)。

4.根据权利要求3所述的连续型纳米薄膜制备用气相沉积设备，其特征在于：所述固定壳体(602)的侧端面中心处固定连接有密封挡板，且位于所述密封挡板的内端面均匀等距对称开设有密封卡槽，所述密封卡槽与密封卡条(2)相适配弹性密封卡接。

5.根据权利要求4所述的连续型纳米薄膜制备用气相沉积设备，其特征在于：所述连接齿轮(102)的底端面固定连接有密封卡板，且位于所述密封卡环(606)的上端面开设有密封槽，所述密封卡板与密封槽相适配密封转动卡接，所述连接齿轮(102)与传动齿轮(604)啮合转动连接。

6.根据权利要求5所述的连续型纳米薄膜制备用气相沉积设备，其特征在于：所述螺纹套筒(101)的顶端面对称固定连接有连接板，且所述连接板的上端面中心处开设有槽体，所述槽体与导向杆(605)相适配滑动卡接。