[实用新型]坩埚装置及具有其的蒸镀机有效
| 申请号: | 202021613534.9 | 申请日: | 2020-08-05 | 
| 公开(公告)号: | CN212293732U | 公开(公告)日: | 2021-01-05 | 
| 发明(设计)人: | 许康 | 申请(专利权)人: | 聚灿光电科技(宿迁)有限公司 | 
| 主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24 | 
| 代理公司: | 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 | 代理人: | 郭红岩 | 
| 地址: | 223800 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 坩埚 装置 具有 蒸镀机 | ||
本实用新型揭示了一种坩埚装置及具有其的蒸镀机。坩埚装置包括坩埚,坩埚上设置有反应容器;坩埚装置还包括:旋转台,旋转台上设置有复数个原料容器,旋转台可绕其中心轴为转轴旋转,复数个原料容器围绕旋转台的中心轴圆周分布,原料容器上设置有补料口;上料机构,上料机构包括上料通道,上料通道的一端可选择地与补料口配合,上料通道的另一端与反应容器连通。蒸镀机包括蒸镀腔、设置于蒸镀腔内的电子枪和坩埚装置。本实用新型通过上料机构将旋转台上的原料引入反应容器内,使补充原料操作简单,提升了工作效率,补充原料时不需要打开蒸镀腔,进一步提升了补充原料的便捷程度,而且本实用新型可以向反应容器内填充不同材质的原料。
技术领域
本实用新型涉及芯片制造设备,特别涉及一种坩埚装置及具有其的蒸镀机。
背景技术
在LED芯片的制作过程中,需要通过蒸镀机将材料熔融形成蒸汽,然后将蒸汽镀在半导体基片上。蒸镀机包括蒸镀腔以及设置于蒸镀腔内的坩埚和电子枪,坩埚上设置有反应腔,反应腔内盛放有原料,电子枪产生的电子束加热反应腔内的原料,使原料变成蒸汽。当原料不断损耗时,需要向反应腔内补充原料。
由于在蒸镀过程中蒸镀腔是密闭的,当向反应腔内补充原料时,必须要停止蒸镀反应,然后将蒸镀腔打开,再向反应腔内倒入原料。因此,补充原料的操作复杂,同时由于坩埚的温度高,在向反应腔倒入原料的过程中存在安全风险,容易烫伤操作者。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种补料方便的坩埚装置及具有其的蒸镀机。
为实现上述实用新型目的之一,本实用新型一实施方式提供一种坩埚装置,包括坩埚,所述坩埚上设置有反应容器;
所述坩埚装置还包括:
旋转台,所述旋转台上设置有复数个原料容器,所述旋转台可绕其中心轴为转轴旋转,复数个所述原料容器围绕所述旋转台的中心轴圆周分布,所述原料容器上设置有补料口;
上料机构,所述上料机构包括上料通道,所述上料通道的一端可选择地与所述补料口配合,所述上料通道的另一端与所述反应容器连通。
作为本实用新型一实施方式的进一步改进,所述原料容器内设置有推料件,所述推料件与所述原料容器内壁相贴,所述推料件可在所述原料容器内靠近或远离所述补料口移动。
作为本实用新型一实施方式的进一步改进,所述坩埚装置还包括推料驱动组件,所述推料驱动组件包括活动块,所述原料容器在所述推料件活动方向的一侧设置有开口,所述活动块可穿过所述开口并可靠近或远离所述补料口移动。
作为本实用新型一实施方式的进一步改进,所述上料机构包括上组装件和下组装件,所述上组装件和下组装件可拆卸式连接。
作为本实用新型一实施方式的进一步改进,所述上组装件的底部设有上槽,所述下组装件的顶部设有下槽,所述上槽和所述下槽相对应,所述上槽和下槽配合形成所述上料通道。
作为本实用新型一实施方式的进一步改进,所述补料口设置于所述原料容器的外周,所述补料口的高度高于所述反应容器的高度,所述上料通道倾斜设置且靠近所述原料容器的一端高于远离所述原料容器的一端。
作为本实用新型一实施方式的进一步改进,所述反应容器移动安装在所述坩埚上且移动方向为纵向,所述坩埚装置还包括设置于所述反应容器下方的感应机构,所述感应机构包括支撑件、弹性件、第一光电传感器,所述支撑件设置于所述弹性件和所述反应容器之间,所述支撑件上设置有横向突出的突出部,所述第一光电传感器可感应所述第一光电传感器与所述支撑件之间的横向距离。
作为本实用新型一实施方式的进一步改进,所述感应机构还包括第二光电传感器,所述第二光电传感器可感应所述第二光电传感器与所述支撑件之间的横向距离,且所述第二光电传感器低于所述第一光电传感器。
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