[实用新型]坩埚装置及具有其的蒸镀机

权利要求书

1.一种坩埚装置，包括坩埚，所述坩埚上设置有反应容器；

其特征在于，所述坩埚装置还包括：

旋转台，所述旋转台上设置有复数个原料容器，所述旋转台可绕其中心轴为转轴旋转，复数个所述原料容器围绕所述旋转台的中心轴圆周分布，所述原料容器上设置有补料口；

上料机构，所述上料机构包括上料通道，所述上料通道的一端可选择地与所述补料口配合，所述上料通道的另一端与所述反应容器连通。

2.根据权利要求1所述的坩埚装置，其特征在于，所述原料容器内设置有推料件，所述推料件与所述原料容器内壁相贴，所述推料件可在所述原料容器内靠近或远离所述补料口移动。

3.根据权利要求2所述的坩埚装置，其特征在于，所述坩埚装置还包括推料驱动组件，所述推料驱动组件包括活动块，所述原料容器在所述推料件活动方向的一侧设置有开口，所述活动块可穿过所述开口并可靠近或远离所述补料口移动。

4.根据权利要求1所述的坩埚装置，其特征在于，所述上料机构包括上组装件和下组装件，所述上组装件和下组装件可拆卸式连接。

5.根据权利要求4所述的坩埚装置，其特征在于，所述上组装件的底部设有上槽，所述下组装件的顶部设有下槽，所述上槽和所述下槽相对应，所述上槽和下槽配合形成所述上料通道。

6.根据权利要求1所述的坩埚装置，其特征在于，所述补料口设置于所述原料容器的外周，所述补料口的高度高于所述反应容器的高度，所述上料通道倾斜设置且靠近所述原料容器的一端高于远离所述原料容器的一端。

7.根据权利要求1所述的坩埚装置，其特征在于，所述反应容器移动安装在所述坩埚上且移动方向为纵向，所述坩埚装置还包括设置于所述反应容器下方的感应机构，所述感应机构包括支撑件、弹性件、第一光电传感器，所述支撑件设置于所述弹性件和所述反应容器之间，所述支撑件上设置有横向突出的突出部，所述第一光电传感器可感应所述第一光电传感器与所述支撑件之间的横向距离。

8.根据权利要求7所述的坩埚装置，其特征在于，所述感应机构还包括第二光电传感器，所述第二光电传感器可感应所述第二光电传感器与所述支撑件之间的横向距离，且所述第二光电传感器低于所述第一光电传感器。

9.根据权利要求7所述的坩埚装置，其特征在于，所述感应机构可靠近或远离所述反应容器移动。

10.一种蒸镀机，包括蒸镀腔和设置于所述蒸镀腔内的电子枪；

其特征在于，所述蒸镀机还包括权利要求1至9任一项所述的坩埚装置，所述坩埚和旋转台设置于所述蒸镀腔内，所述电子枪的电子束加热区域与所述反应容器的位置相对应。