[实用新型]一种晶圆固定装置及晶圆清洁系统

权利要求书

1.一种晶圆固定装置，其特征在于，包括底座(1)、旋转台(2)和真空发生装置；

所述旋转台(2)可转动的设置在所述底座(1)上；

所述旋转台(2)上设有多个连通的导气槽(21)和凸台(22)；所述导气槽(21)与所述真空发生装置连通，所述导气槽(21)靠近所述凸台(22)设置，所述凸台(22)高于所述旋转台(2)边缘台面，所述凸台(22)用于放置晶圆；

所述真空发生装置通过在所述导气槽(21)中产生吸附气流，将所述晶圆固定在所述凸台(22)上。

2.根据权利要求1所述的晶圆固定装置，其特征在于，所述底座(1)包括固定底座(11)、安装底座(12)和旋转组件(13)；

所述固定底座(11)呈中空设置，并设有向外连通的第一通孔(111)；所述第一通孔(111)与所述真空发生装置连通；

所述安装底座(12)固定在所述固定底座(11)上，用于安装所述旋转组件(13)，所述安装底座(12)包括与所述固定底座(11)内部连通的第二通孔(121)；

所述旋转组件(13)的底部设置在所述安装底座(12)上，所述旋转组件(13)的顶部与所述旋转台(2)连接。

3.根据权利要求2所述的晶圆固定装置，其特征在于，所述旋转组件(13)包括旋转件(131)和连接件(132)；

所述旋转件(131)固定在所述安装底座(12)上，并与所述连接件(132)转动连接，所述旋转件(131)设有与所述第二通孔(121)连通的第三通孔(1311)，

所述连接件(132)与所述旋转台(2)固定连接，所述连接件(132)设有与所述第三通孔(1311)连通的第四通孔(1321)。

4.根据权利要求3所述的晶圆固定装置，其特征在于，所述连接件(132)的上表面与所述旋转台(2)的下表面设有预设间隙。

5.根据权利要求4所述的晶圆固定装置，其特征在于，

所述导气槽(21)包括多个同圆心设置的圆形槽，多个所述圆形槽相互连通，部分所述圆形槽连通所述预设间隙；

所述凸台(22)设置在所述圆形槽之间，并且所述凸台(22)高于所述旋转台(2)边缘台面。

6.根据权利要求5所述的晶圆固定装置，其特征在于，多个所述圆形槽中最大圆形槽的直径小于所述晶圆的直径。

7.根据权利要求1所述的晶圆固定装置，其特征在于，所述旋转台(2)外侧壁还设有至少一个转动臂，所述转动臂用于带动所述旋转台(2)转动。

8.根据权利要求1所述的晶圆固定装置，其特征在于，所述真空发生装置为真空发生器。

9.一种晶圆清洁系统，其特征在于，所述系统包括：

权利要求1至8任一项所述的晶圆固定装置；

清洁装置，用于清洁所述晶圆的上表面；

水汽过滤装置，设置在所述底座(1)内部；和，

真空报警装置，与所述底座(1)内部连接，用于检测所述晶圆固定装置内部真空度，当所述真空度超出预设阈值区间时，进行报警提示。

10.根据权利要求9所述的晶圆清洁系统，其特征在于，所述清洁装置为清洁枪。