[实用新型]氯盐碱性蚀刻废液电解再生提铜与负压逆流回收氨系统

说明书

本实用新型公开了一种氯盐碱性蚀刻废液电解再生提铜与负压逆流回收氨系统，该系统通过MOD电解装置对蚀刻废液进行电解将其中的铜离子还原为铜单质，产生的NH₄Cl溶于再生液中，产生的NH₃通过低温引射吸收和负压逆流回收氨制备形成氨水，能够通过MOD电解再生提铜与负压逆流回收氨弥补单独使用萃取再生循环系统或直接电解再生循环系统所存在的问题，补充了蚀刻液中损耗的NH₄Cl和NH₃，能够减少耗材，降低成本，使氨气得到回用；另引射管道混合器将氨气直接输送到蚀刻机，提升蚀刻能力，保证蚀刻速度。此外本申请所述系统结构简单，能够真正实现零排放、低成本的蚀刻液再生循环，达到PCB企业清洁生产、经济效益提高的目标。

技术领域

本实用新型涉及一种碱性蚀刻废液循环再生用系统，尤其涉及一种氯盐碱性蚀刻液电解再生提铜与负压逆流回收氨系统，属于印刷电路板碱性蚀刻废液循环再生技术领域。

背景技术

目前氯盐碱性蚀刻废液再生循环处理的方法有两种。

一种是萃取法，即使用有机萃取剂，利用铜离子在该有机萃取剂与蚀刻废液中的分配比不同，通过将有机萃取剂与蚀刻废液混合，使蚀刻废液中的铜转入有机萃取剂中以达到分离铜的目的，再用硫酸溶液将有机萃取剂中的铜离子反萃出来，对所得到的硫酸铜溶液再进行电解提铜。该方法虽能达到蚀刻废液再生的效果，但也存在着缺点，主要有：①被萃取过后的蚀刻废液中铜离子的浓度仍然较高，一般约有60-80g/L，其作为再生液回用至蚀刻工序循环次数多，会降低设备的负荷能力；若要降低再生液的铜离子浓度，则需要进行多级萃取，会增加设备成本。②在萃取过程中，有机萃取剂会夹带少量NH₄Cl、NH₃、SO₄^2-，故硫酸铜溶液易受到污染从而导致电解铜品相下降，同时SO₄^2-会造成蚀刻速度下降。

另外一种是直接电解法，即直接将蚀刻废液导入电解槽中进行电解提铜，电解后所形成的低铜浓度的再生液返回至蚀刻工序中。该方法操作简单，设备成本较低，但也存在着缺点，主要是在电解过程中，会挥发大量的氨气，致使物料消耗。

实用新型内容

针对上述现有氯盐碱性蚀刻废液循环再生技术中存在的不足，本实用新型提供了一种氯盐碱性蚀刻废液电解再生提铜与负压逆流回收氨系统，其能够解决现有技术中的缺陷，真正实现零排放、低成本的蚀刻废液再生循环，达到PCB企业清洁生产、经济效益提高的目标。

本实用新型的技术方案是：

本实用新型公开了一种氯盐碱性蚀刻废液电解再生提铜与负压逆流回收氨系统，该系统包括MOD电解装置、再生液引射吸收装置和负压逆流吸氨装置，

其中所述MOD电解装置的进液口与储存蚀刻废液的装置的出液口连通，该MOD电解装置的出液口与再生液引射吸收装置的进液口连通，该MOD电解装置的出气口中的一路与再生液引射吸收装置的进气口连通，且该MOD电解装置的出气口中的另一路经引射管道混合器后和在线蚀刻工序用设备连通；

其中所述再生液引射吸收装置的出气口与所述负压逆流吸氨装置的进气口连通，该负压逆流吸氨装置的出液口与一氨水储存桶连通连通；所述再生液引射吸收装置的出液口与一再生子液调配桶连通，且该再生子液调配桶经一再生子液储存缸后与在线蚀刻工序用设备连通；所述氨水储存桶分别与所述再生子液调配桶和所述在线蚀刻工序用设备连通。

其进一步的技术方案是：

所述储存蚀刻废液的装置为蚀刻废液储存缸，该所述蚀刻废液储存缸与在线蚀刻工序用设备或碱性蚀刻液萃取再生设备连通。

其进一步的技术方案是：