[实用新型]一种用于光芯片波导微小缺陷的检测系统

权利要求书

1.一种用于光芯片波导微小缺陷的检测系统，其特征在于，包括工业相机、第一光学成像装置、第二光学成像装置、第一光源、第二光源、多维调节台和工控电脑，所述光芯片放置于多维调节台的上端，所述工业相机与工控电脑连接，所述工业相机、第一光学成像装置、第一光源、第二光学成像装置自上而下依次连接，所述第二光源与第二光学成像装置的侧面连接，所述第一光源为环形光源，所述第二光源为平行同轴光源，

所述第一光学成像装置包括第一镜筒，所述第一镜筒内由下至上依次设有第一透镜、第二透镜和第三透镜，所述第一透镜为双凸透镜，所述第二透镜为中央向上弯折的凹透镜，所述第三透镜为双凹透镜，

所述第二光学成像装置包括第二镜筒，所述第二镜筒内由下至上依次设有第四透镜、第五透镜、第六透镜、第七透镜、第八透镜、第九透镜和第十透镜，所述第四透镜为平凸透镜，所述第五透镜和第六透镜为上下对称设置的凸透镜，所述第七透镜为双凸透镜，所述第八透镜为双凹透镜，所述第九透镜为凸透镜，所述第十透镜为平凸透镜，所述第二镜筒的上部设有分光棱镜。

2.根据权利要求1所述的一种用于光芯片波导微小缺陷的检测系统，其特征在于，所述第一透镜和第二透镜靠近设置，所述第二透镜和第三透镜存在间距，所述第二透镜下端的弧度与第一透镜上端的弧度配合。

3.根据权利要求1所述的一种用于光芯片波导微小缺陷的检测系统，其特征在于，所述第四透镜的上端为凸面，所述第十透镜的下端为凸面。

4.根据权利要求3所述的一种用于光芯片波导微小缺陷的检测系统，其特征在于，所述第五透镜上端凸起的弧度大于第五透镜下端凸起的弧度。

5.根据权利要求3或4所述的一种用于光芯片波导微小缺陷的检测系统，其特征在于，所述第七透镜上端的弧度与第八透镜下端的弧度配合，所述第七透镜的上端紧贴第八透镜的下端连接。

6.根据权利要求3所述的一种用于光芯片波导微小缺陷的检测系统，其特征在于，所述第九透镜上端凸起的弧度小于第九透镜下端凸起的弧度。

7.根据权利要求1所述的一种用于光芯片波导微小缺陷的检测系统，其特征在于，所述分光棱镜呈三棱柱状，所述分光棱镜的上表面与第二镜筒上端的内壁连接，所述分光棱镜的侧面与第二镜筒中远离第二光源的一侧内壁连接。

8.根据权利要求1所述的一种用于光芯片波导微小缺陷的检测系统，其特征在于，所述多维调节台为五维调节台，所述多维调节台包括手动调整架和角度调整架。

9.根据权利要求1所述的一种用于光芯片波导微小缺陷的检测系统，其特征在于，所述工业相机和工控电脑之间通过USB/RS232串口线连接。