[实用新型]一种工业水处理剂的灌装设备

说明书

本实用新型公开了一种工业水处理剂的灌装设备，包括底板，底板的顶端固定有支撑环，支撑环的顶端安装有灌装台，灌装台的顶端固定有挡圈，灌装台的表面开有放置槽，放置槽的顶端开有回流槽，放置槽的底端固定有支柱，放置槽的底端开有导流孔，灌装台的底端固定有滑轨，导流孔贯穿滑轨。灌装失误洒出的水处理剂，通过挡圈阻挡，避免流出灌装台，同时，水处理剂经过回流槽流进放置槽，保持灌装台无水处理剂，保护工作人员的安全。聚集在放置槽内的水处理剂通过导流孔落在滑槽内部，并经过出口流出，清理干净水处理剂，并集中处理。

技术领域

本实用新型属于水处理剂的灌装技术领域，具体为一种工业水处理剂的灌装设备。

背景技术

水处理剂是指为了除去水中的大部分有害物质，例如，如腐蚀物、金属离子、污垢及微生物等，得到符合要求的民用或工业用水；在水处理过程中添加的化学药品，就是水处理剂，是用于水处理的化学药剂的总称，广泛用于石油、化工、冶金、交通、轻工、纺织等工业部门；水处理剂在生产的过程中，需要使用罐装设备进行灌装。

授权公告号CN210559285U的中国发明专利于2020年5月19日公开了一种水处理剂的罐装设备，针对现有的灌装设备不能对水处理剂的灌装量进行定量，导致每个灌装瓶的量不同的问题，现提出如下方案，其包括底座，所述底座的顶部固定安装有安装座，安装座的上方设有滑动座，所述滑动座的顶部固定安装有存储箱，存储箱的顶部设有进液口，所述存储箱的一侧连接有出液管的一端，出液管上设有阀门，所述滑动座的一侧固定安装有两个固定杆的一端，两个固定杆的另一端固定安装有同一个漏斗，两个固定杆的外侧滑动安装有同一个滑动板，本实用新型可以定量灌装，有效的避免了每个灌装瓶的量不同的问题，结构简单，使用方便。

现有的工业水处理剂的灌装设备，虽然，可以定量灌装，有效的避免了每个灌装瓶的量不同的问题。然而，在进行灌装时，水处理剂会出现灌装失误，洒出灌装瓶，水处理剂为化学药剂具有一定的危害性，容易伤害工作人员，且不方便清理，影响水处理剂的灌装。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种工业水处理剂的灌装设备，以解决在进行灌装时，水处理剂会出现灌装失误，洒出灌装瓶，水处理剂为化学药剂具有一定的危害性，容易伤害工作人员，且不方便清理，影响水处理剂的灌装的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种工业水处理剂的灌装设备，包括底板，所述底板的顶端固定有支撑环，所述支撑环的顶端安装有灌装台，所述灌装台的顶端固定有挡圈，所述灌装台的表面开有放置槽，所述放置槽的顶端开有回流槽，所述放置槽的底端固定有支柱，所述放置槽的底端开有导流孔，所述灌装台的底端固定有滑轨，所述导流孔贯穿滑轨。

优选的，所述支撑环的顶端开有滑槽，所述滑轨插入滑槽，所述滑槽的侧面开有出口，所述支撑环的内部安装有电机，所述电机的顶端连接有转轴，所述转轴与灌装台连接。

优选的，所述底板的顶端安装有设备主体，设备主体位于支撑环的一侧，所述设备主体的侧面设置有灌装头，灌装头位于灌装台的上方，正对准放置槽。

优选的，所述支撑环和底板垂直，支撑环的顶端为弧形结构，减小灌装台与支撑环之间的摩擦；所述灌装台为圆形台，灌装台的直径不小于支撑环的直径，所述灌装台的底端和支撑环的顶端平行。

优选的，所述挡圈的内边与回流槽的边缘接触，挡圈位于灌装台的边缘，所述放置槽的底端为弧形底，所述回流槽的截面为倒八字结构。

优选的，所述支柱的顶端为半球形结构，支柱均匀分布固定在放置槽的底端，支柱的顶端高度相等，用于放置灌装瓶，所述滑轨为环形结构，所述滑轨位于放置槽的下方。

优选的，所述滑槽为斜坡环形槽，连接出口位置的滑槽为最低，利于滑槽内部的水处理剂从出口流出；所述转轴和灌装台垂直。