[实用新型]一种工业水处理剂的灌装设备

权利要求书

1.一种工业水处理剂的灌装设备，包括底板(1)，其特征在于：所述底板(1)的顶端固定有支撑环(4)，所述支撑环(4)的顶端安装有灌装台(9)，所述灌装台(9)的顶端固定有挡圈(10)，所述灌装台(9)的表面开有放置槽(11)，所述放置槽(11)的顶端开有回流槽(12)，所述放置槽(11)的底端固定有支柱(13)，所述放置槽(11)的底端开有导流孔(14)，所述灌装台(9)的底端固定有滑轨(15)，所述导流孔(14)贯穿滑轨(15)。

2.根据权利要求1所述的一种工业水处理剂的灌装设备，其特征在于：所述支撑环(4)的顶端开有滑槽(7)，所述滑轨(15)插入滑槽(7)，所述滑槽(7)的侧面开有出口(8)，所述支撑环(4)的内部安装有电机(5)，所述电机(5)的顶端连接有转轴(6)，所述转轴(6)与灌装台(9)连接。

3.根据权利要求1所述的一种工业水处理剂的灌装设备，其特征在于：所述底板(1)的顶端安装有设备主体(2)，所述设备主体(2)的侧面设置有灌装头(3)。

4.根据权利要求1所述的一种工业水处理剂的灌装设备，其特征在于：所述支撑环(4)和底板(1)垂直，所述灌装台(9)为圆形台，所述灌装台(9)的底端和支撑环(4)的顶端平行。

5.根据权利要求1所述的一种工业水处理剂的灌装设备，其特征在于：所述挡圈(10)的内边与回流槽(12)的边缘接触，所述放置槽(11)的底端为弧形底，所述回流槽(12)的截面为倒八字结构。

6.根据权利要求1所述的一种工业水处理剂的灌装设备，其特征在于：所述支柱(13)的顶端为半球形结构，所述滑轨(15)为环形结构，所述滑轨(15)位于放置槽(11)的下方。

7.根据权利要求2所述的一种工业水处理剂的灌装设备，其特征在于：所述滑槽(7)为斜坡环形槽，所述转轴(6)和灌装台(9)垂直。