[实用新型]一种清洗设备有效
| 申请号: | 202021301346.2 | 申请日: | 2020-07-06 |
| 公开(公告)号: | CN213134130U | 公开(公告)日: | 2021-05-07 |
| 发明(设计)人: | 李卫国;陆前军;王子荣 | 申请(专利权)人: | 广东中图半导体科技股份有限公司 |
| 主分类号: | B08B1/02 | 分类号: | B08B1/02;B08B3/02;B08B3/08;B08B13/00;H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 胡彬 |
| 地址: | 523000 广东省东莞市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 清洗 设备 | ||
1.一种清洗设备,其特征在于,包括:
有机溶剂清洗机构,所述有机溶剂清洗机构包括第一旋转座(1)和有机溶剂喷头组件,置于所述第一旋转座(1)上的待清洗晶片(3)能够随所述第一旋转座(1)旋转,所述有机溶剂喷头组件位于所述第一旋转座(1)的上方,并朝向所述第一旋转座(1)设置,用于向所述待清洗晶片(3)表面喷洒有机清洗溶剂;
洗刷机构,所述洗刷机构包括第二旋转座(4)、冲洗喷头组件和刷头组件,置于所述第二旋转座(4)上的所述待清洗晶片(3)能够随所述第二旋转座(4)旋转,所述刷头组件位于所述第二旋转座(4)的上方,并能够对所述待清洗晶片(3)进行洗刷,所述冲洗喷头组件用于向所述待清洗晶片(3)喷洒清洗水;
中间转移机构,用于将所述待清洗晶片(3)由所述第一旋转座(1)转移至所述第二旋转座(4)。
2.根据权利要求1所述的清洗设备,其特征在于,
所述冲洗喷头组件包括上喷头(5)和下喷头(6),所述上喷头(5)位于所述待清洗晶片(3)的上方,所述下喷头(6)位于所述待清洗晶片(3)的下方。
3.根据权利要求1所述的清洗设备,其特征在于,
所述中间转移机构为转移机械手,所述转移机械手位于所述第一旋转座(1)和所述第二旋转座(4)之间。
4.根据权利要求1所述的清洗设备,其特征在于,
所述刷头组件包括移动机构和清洗刷头(7),所述移动机构与所述清洗刷头(7)传动连接,用于驱动所述清洗刷头(7)沿第一方向移动以靠近所述待清洗晶片(3),以及驱动所述清洗刷头(7)沿第二方向移动以由内向外或者由外向内洗刷所述待清洗晶片(3)。
5.根据权利要求4所述的清洗设备,其特征在于,
所述移动机构包括第一气缸、连接板和第二气缸,所述第一气缸的气缸杆沿所述第一方向设置,并与所述连接板连接,所述第二气缸设置在所述连接板上,所述第二气缸的气缸杆沿所述第二方向设置,并与所述清洗刷头(7)连接。
6.根据权利要求4所述的清洗设备,其特征在于,
所述移动机构为移动机械手,所述移动机械手具有多个自由度。
7.根据权利要求1所述的清洗设备,其特征在于,还包括:
上料转移机构(8),所述上料转移机构(8)用于将所述待清洗晶片(3)由上料口(9)转移至所述第一旋转座(1)上。
8.根据权利要求1所述的清洗设备,其特征在于,还包括:
出料转移机构,所述出料转移机构用于将清洗后的所述待清洗晶片(3)由所述第二旋转座(4)转移至出料口(10)。
9.根据权利要求1所述的清洗设备,其特征在于,
所述有机清洗溶剂为丙酮。
10.根据权利要求1所述的清洗设备,其特征在于,
所述第一旋转座(1)和所述第二旋转座(4)上均设置有真空吸附机构,以将所述待清洗晶片(3)吸附。
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