[实用新型]一种用于金刚石膜沉积的衬底预处理支架

说明书

本实用新型公开了一种用于金刚石膜沉积的衬底预处理支架，包括端盖、腔体、吸盘、支撑架、密封垫、开度控制装置、进气孔、抽气孔、连接腔、密封槽、吸盘连接孔、螺杆、开度块和连接块。该对沉积金刚石膜的衬底超声预处理时的衬底支架，端盖的上端面设置有进气孔和抽气孔，所述进气孔和抽气孔设置为对称结构，利用气压差，使基底在外部的气压的作用下，紧贴支架上，使衬底稳定悬于悬浊液中，衬底的每部分受到均匀处理，并且在处理的数量上有很大的提高，具有很好的应用前景，同时该装置简单且易于生产，降低使用成本。

技术领域

本实用新型涉及一种支架装置，具体为一种用于金刚石膜沉积的衬底预处理支架。

背景技术

金刚石膜在异质衬底上的生长是从形核开始的，即需要在异质衬底上生长出一个大于临界尺寸的金刚石晶核，由于必须首先形成大于临界尺寸的晶核，因此在没有经过预处理的的光滑衬底的表面上形核需要经历一个相当长的“孕育期”，而且形核的密度和好坏直接影响着金刚石的质量。为了缩短其孕育期和提高金刚石的形核密度，通常需要在沉积前对衬底进行预处理。

在众多预处理方法中，利用超声波对衬底处理，是一重要而常用的方法，具体过程如下：将衬底放入钛粉和金刚石粉的悬浊液里超声预处理，使其产生足够的缺陷及Ti粉、金刚石粉附着在基底上，在形核时提供足够的形核位置，以便快速形核，若直接将基底放入悬浊液中，在超声处理时会沉入底部，处理效果较差，若采用一般的夹持架，会使基底的某一部分处理不到，这样的后果会使未处理到的部分，在沉积金刚石膜时，较难沉积金刚石膜，并且两种中方法处理的数量有限。

因此，针对这些问题，而提供一种用于金刚石膜沉积的衬底预处理支架。

实用新型内容

本实用新型的目的就在于为了解决上述问题而提供一种用于金刚石膜沉积的衬底预处理支架。

本实用新型通过以下技术方案来实现上述目的：一种用于金刚石膜沉积的衬底预处理支架，包括端盖，所述端盖的下面设置有腔体，所述腔体的下端设置有吸盘，所述腔体的侧面设置有支撑架，所述端盖的内部设置有密封垫，所述端盖的上端设置有开度控制装置，所述腔体的内部设置有连接腔，所述连接腔的上端设置有密封槽，所述开度控制装置的顶端设置有螺杆，所述螺杆的下侧位置处设置有连接块，所述连接块的内部设置有开度块。

优选的，所述端盖的上端面设置有进气孔和抽气孔，所述进气孔和抽气孔设置为对称结构。

优选的，所述腔体的底部设置有若干个吸盘连接孔，所述吸盘连接孔的上端连接有连接腔，连接腔的内部设置有干燥剂。

优选的，所述开度控制装置的开度块设置为圆台、圆球、或圆锥状形状，且所述开度块的最大尺寸大于或等于进气孔的内径。

优选的，所述端盖的内部两侧设置有密封垫，所述密封垫的下端设置有密封槽。

优选的，所述支撑架贯穿在端盖的上下两端，所述支撑架设置为细长型结构。

与现有技术对比，本实用新型具备以下有益效果：

1、该对沉积金刚石膜的衬底超声预处理时的衬底支架，利用气压差，使基底在外部的气压的作用下，紧贴支架上，使衬底稳定悬于悬浊液中，衬底的每部分受到均匀处理，并且在处理的数量上有很大的提高，具有很好的应用前景，同时该装置简单且易于生产，降低使用成本。

2、该对沉积金刚石膜的衬底超声预处理时的衬底支架，通过设置进气孔和抽气孔，在工作时用真空泵抽腔体内的空气，使得进气孔的开度小于抽气孔的开度，同时腔体的吸盘要在液体以下且吸盘要柔软，增加超声的处理效果，使得装置的衬底支架设计的更加合理有效，提升装置的实用性，便于装置在市面上推广。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型剖面的结构示意图；