[实用新型]晶圆清洁系统有效
| 申请号: | 202021286893.8 | 申请日: | 2020-07-03 |
| 公开(公告)号: | CN212676222U | 公开(公告)日: | 2021-03-09 |
| 发明(设计)人: | 张大伟 | 申请(专利权)人: | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京成创同维知识产权代理有限公司 11449 | 代理人: | 蔡纯;张靖琳 |
| 地址: | 430074 湖北省武汉*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 清洁 系统 | ||
本申请公开了一种晶圆清洁系统,包括承载台与清洁模组,清洁模组包括:固定柱,可移动至承载台上方;清洁刷体,至少部分位于固定柱的柱面;以及马达,位于所述固定柱的一端,通过轴承与固定柱连接,以驱动固定柱旋转,从而带动清洁刷体旋转,减少了马达与固定柱之间齿轮传动的环节,增加了清洁刷体旋转时的平稳度。还公开了一种晶圆清洁系统,其清洁模组中的液体循环器与驱动装置分别设置在固定柱的两端,达到了电液分离的效果,提高了安全性。
技术领域
本实用新型涉及半导体技术领域,更具体地,涉及一种晶圆清洁系统。
背景技术
随着半导体工业飞速发展,电子器件的尺寸逐渐缩小,实现的功能逐渐增多,制造电子器件的步骤也逐渐增加,因此对晶圆的清洁也变得更加重要。
在现有技术中,一般通过清洁模组对晶圆进行清洁,清洁模组包括清洁刷、位于清洁刷同一侧的驱动装置和液体循环装器,由于驱动装置和液体循环装器距离太近,一旦液体循环装器中的液体泄漏,操作人员可能会因触电发生危险。
此外,现有技术中清洁刷的旋转一般依靠齿轮的传动驱动,如果当齿轮组出现打滑或者损坏,清洁刷的转速就会受到极大影响,进而影响清洁效率。
实用新型内容
鉴于上述问题,本实用新型的目的在于提供一种晶圆清洁系统,通过对驱动装置以及液体循环器的改进,保护了操作人员的人身安全、保证了清洁效率。
根据本实用新型的一方面,提供了一种晶圆清洁系统,包括承载台与清洁模组,所述清洁模组包括:固定柱,可移动至所述承载台上方;清洁刷体,至少部分位于所述固定柱的柱面;以及马达,位于所述固定柱的一端,通过轴承与所述固定柱连接,以驱动所述固定柱旋转。
优选地,所述清洁模组还包括液体循环器,位于所述固定柱的另一端,与所述轴承连接。
优选地,所述清洁刷体呈筒状,套接在所述固定柱的表面。
优选地,所述清洁刷体的长度不小于待清洁的晶圆的直径。
优选地,所述清洁模组包括多个,每个所述清洁模组的所述固定柱呈平行排布。
根据本实用新型的另一方面,提供了一种晶圆清洁系统,包括承载台与清洁模组,所述清洁模组包括:固定柱,可移动至所述承载台上方;清洁刷体,至少部分位于所述固定柱的柱面;驱动装置,位于所述固定柱的一端,以驱动所述固定柱旋转。液体循环器,位于所述固定柱的另一端,通过轴承与所述固定柱连接。
优选地,所述驱动装置包括:第一齿轮,套接在所述轴承上;第二齿轮,与所述第一齿轮啮合;以及马达,与所述第二齿轮连接,以直接驱动所述第二齿轮旋转。
优选地,所述清洁刷体呈筒状,套接在所述固定柱的表面。
优选地,所述清洁刷体的长度不小于待清洁的晶圆的直径。
优选地,所述清洁模组包括多个,每个所述清洁模组的所述固定柱呈平行排布。
根据本实用新型实施例提供的晶圆清洁系统,通过将马达与轴承连接,以直接驱动固定柱旋转,从而带动清洁刷体旋转,减少了马达与固定柱之间齿轮传动的环节,增加了清洁刷体旋转时的平稳度,进而影响清洁效率。
根据本实用新型实施例提供的晶圆清洁系统,通过将清洁模组中的液体循环器与驱动装置分别设置在固定柱的两端,达到了电液分离的效果,提高了安全性。
附图说明
通过以下参照附图对本实用新型实施例的描述,本实用新型的上述以及其他目的、特征和优点将更为清楚。
图1示出了晶圆清洁系统中清洁模组的立体结构示意图。
图2示出了图1中清洁模组的原理示意图。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





