[实用新型]单晶硅生长炉的二次加料装置有效
申请号: | 202021272964.9 | 申请日: | 2020-07-01 |
公开(公告)号: | CN213388966U | 公开(公告)日: | 2021-06-08 |
发明(设计)人: | 刘军波;牛照伦;王三朋 | 申请(专利权)人: | 宁晋晶兴电子材料有限公司 |
主分类号: | C30B15/02 | 分类号: | C30B15/02;C30B29/06 |
代理公司: | 北京市万慧达律师事务所 11111 | 代理人: | 张一帆 |
地址: | 055550 河*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 单晶硅 生长 二次 加料 装置 | ||
1.一种单晶硅生长炉的二次加料装置,其特征在于,包括:
石英筒,所述石英筒的底部设有石英锥,所述石英锥与所述石英筒围构成硅料盛放区,所述石英筒中穿设有与其同轴设置的连杆,所述连杆的底端连接所述石英锥,所述连杆用于在外力的作用下推拉所述石英锥以储料和卸料,其中,所述石英筒包括上筒和下筒,所述上筒和所述下筒可拆卸连接。
2.根据权利要求1所述的二次加料装置,其特征在于,所述上筒和所述下筒均为石英管,所述上筒的外侧设有耐高温玻璃胶层。
3.根据权利要求1或2所述的二次加料装置,其特征在于,所述石英筒外侧至少套设有一个丝扣法兰,所述上筒和所述下筒之间通过任一个所述丝扣法兰进行可拆卸连接,且各个所述丝扣法兰的凸缘盘均可为所述石英筒提供限位卡点。
4.根据权利要求3所述的二次加料装置,其特征在于,所述丝扣法兰为限位法兰,包括螺纹连接的第一法兰和第二法兰,其中,所述第一法兰和/或所述第二法兰的内壁与所述石英筒之间设有胶圈,当所述第一法兰和所述第二法兰螺纹连接时,所述胶圈受挤压产生摩擦力使所述丝扣法兰定位在所述石英筒上;
或者,所述丝扣法兰为连接法兰,包括第三法兰、第四法兰,以及分别与所述第三法兰和所述第四法兰螺纹连接的对丝,其中,所述对丝的内壁与所述石英筒之间设有胶圈,当所述第三法兰和所述第四法兰与所述对丝螺纹连接时,所述胶圈受挤压产成摩擦力使所述丝扣法兰定位在所述石英筒上。
5.根据权利要求4所述的二次加料装置,其特征在于,所述丝扣法兰为一个,当所述丝扣法兰为限位法兰时,所述第一法兰和所述第二法兰分别设于所述上筒外侧和所述下筒外侧;当所述丝扣法兰为连接法兰时,所述第三法兰和所述第四法兰分别设于所述上筒外侧和所述下筒外侧。
6.根据权利要求4所述的二次加料装置,其特征在于,所述丝扣法兰至少有两个,且至少包括一个连接法兰和一个限位法兰,所述连接法兰的第三法兰设于所述上筒外侧,所述连接法兰的第四法兰设于所述下筒外侧;所述限位法兰的第一法兰和第二法兰均设于所述上筒外侧。
7.根据权利要求4-6中任一项所述的二次加料装置,其特征在于,所述第一法兰、所述第二法兰以及所述对丝的内壁上均开设有用以容纳所述胶圈的凹槽,所述凹槽至少为一条,所述胶圈与所述凹槽一一对应设置。
8.根据权利要求7所述的二次加料装置,其特征在于,所述凹槽内还设有垫圈,所述垫圈的两侧分别与所述凹槽和所述胶圈面接触。
9.根据权利要求8所述的二次加料装置,其特征在于,所述胶圈为氟胶圈或硅胶圈;所述丝扣法兰的材质为聚四氟乙烯或不锈钢,所述垫圈为四氟垫圈。
10.根据权利要求1所述的二次加料装置,其特征在于,所述石英筒的上部还设有定位盘,所述定位盘的材质为聚四氟,所述定位盘与所述连杆的顶端连接,以使所述连杆与所述石英筒同轴设置。
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