[实用新型]一种自动化双面曝光机有效

专利信息
申请号: 202021181763.8 申请日: 2020-06-23
公开(公告)号: CN213023936U 公开(公告)日: 2021-04-20
发明(设计)人: 钱志斌;胥涛棚;张雷;李伟成 申请(专利权)人: 苏州源卓光电科技有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;B65G47/90;B65G47/248
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215026 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 自动化 双面 曝光
【说明书】:

一种自动化双面曝光机,其包括上料装置、第一台面、第二台面和下料装置,其还包括转移搬运组件和翻转搬运组件,位于所述第一台面和第二台面之间的曝光系统,所述第一台面和所述第二台面放置待曝光基件的初始位置位于所述曝光系统的两侧,依次移动至所述曝光系统进行曝光,所述翻转搬运组件翻转移动所述基件,所述转移搬运组件移动所述基件。本实用新型的第一台面和第二台面共用一个曝光系统,所述曝光装置呈直线形设置,配合转移搬运组件和翻转搬运组件,对第一台面和第二台面分别进行对位曝光,两个台面可以分别对基件的第一曝光面和第二曝光面进行对位曝光,互不干扰,曝光效率高,通过一个曝光系统一次流转完成基件的双面曝光。

技术领域

本实用新型涉及曝光机技术领域,具体是一种自动化双面曝光机。

背景技术

为了适应电子产品智能化和小型化的发展,电子电路不再只是在基件的单面进行曝光处理,而通常需要对基件的双面进行电子电路的曝光处理。而目前对基件进行双面处理时,通常需要两台曝光机,第一曝光机和第二曝光机,所述第一曝光机包括第一对位机构和第一曝光系统,所述第二曝光机包括第二对位机构和第二曝光系统,位于所述第一曝光机和所述第二曝光机之间的翻板机,翻板机位于第一曝光机的出料端,第二曝光机的进料端之间,上料装置位于第一曝光机的前端,下料装置位于第二曝光的后端。对基件进行曝光时,先通过第一曝光机对基件的第一曝光面进行对位曝光操作,然后通过机械手将完成第一曝光面曝光的基件转移至翻板机,翻板机将基件翻转至未曝光的第二曝光面朝上,通过机械手转移至第二曝光机对基件的第二曝光面进行曝光。这种双面曝光的方式虽然实现了双面曝光的自动化,但是整个自动化系统占用空间大,需要两个对位机构和两个曝光系统分别对位曝光。

发明内容

本实用新型目的是提供一种节省空间的自动双面曝光机。

为了达到上述目的,本实用新型所采用的技术方案为:一种自动化双面曝光机,其包括上料装置、第一台面、第二台面和下料装置,其还包括转移搬运组件和翻转搬运组件,位于所述第一台面和第二台面之间的曝光系统,所述第一台面和所述第二台面放置待曝光基件的初始位置位于所述曝光系统的两侧,依次移动至所述曝光系统进行曝光,所述翻转搬运组件翻转移动所述基件,所述转移搬运组件移动所述基件。

进一步的,所述转移搬运组件数量为两个,所述翻转搬运组件的数量为一个。

进一步的,所述翻转搬运组件在所述上料装置和所述第一台面之间移动,至少一所述转移搬运组件在第一台面和第二台面中间移动。

进一步的,所述翻转搬运组件在所述第二台面和所述下料装置之间移动,至少一所述转移搬运组件在第一台面和第二台面中间移动。

进一步的,所述翻转搬运组件包括转轴,所述转轴两侧对称设置第一吸附组件和第二吸附组件。

进一步的,所述自动化双面曝光机还包括设置于侧边的滑轨,所述翻转搬运组件和所述转移搬运组件沿所述滑轨滑动。

进一步的,所述自动化双面曝光机包括相对设置的纵向滑轨,所述纵向滑轨自所述上料装置延伸至下料装置,所述纵向滑轨上设置有竖向滑轨,所述翻转搬运组件和所述转移搬运组件夹持在两个竖向滑轨之间,沿所述纵向滑轨移动。

进一步的,所述自动化双面曝光机在纵向上设置导轨,所述第一台面和所述第二台面在扫描方向移动时共用所述导轨。

进一步的,所述翻转搬运组和所述转移搬运组件与所述第一台面、曝光系统、所述第二台面并行位置,所述翻转搬运组件相对设置于所述第一台面和所述第二台面中间,所述转移搬运组件在所述第一台面、所述第二台面、所述翻转搬运组件之间移动基件。

进一步的,所述翻转搬运组件包括两个夹持件,两个夹持件之间通过转动轴连接,两个夹持件夹持所述基件,自一侧翻转至另一侧。

进一步的,所述上料装置、所述翻转搬运组件、所述转移搬运组件和所述下料装置呈直线形设置,平行于所述第一台面、曝光系统和第二台面。

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