[实用新型]一种SiO2基底PVD镀膜用转动夹具有效

专利信息
申请号: 202021158166.3 申请日: 2020-06-20
公开(公告)号: CN212834005U 公开(公告)日: 2021-03-30
发明(设计)人: 白秋云 申请(专利权)人: 成都超纯应用材料有限责任公司
主分类号: C23C14/50 分类号: C23C14/50
代理公司: 成都睿道专利代理事务所(普通合伙) 51217 代理人: 潘育敏
地址: 610200 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 sio2 基底 pvd 镀膜 转动 夹具
【说明书】:

本实用新型涉及工装基底夹具技术领域,具体而言,涉及一种SiO2基底PVD镀膜用转动夹具,包括圆环支架、基底夹具和电机,所述圆环支架与镀膜机真空腔的内壁固定连接,所述基底夹具与所述圆环支架转动连接,所述电机的输出端设有第一锥齿轮,所述第一锥齿轮与所述圆环支架同轴;所述基底夹具的一端设有第二锥齿轮,所述第二锥齿轮的轴向与所述基底夹具的载物面平行,且所述第一锥齿轮和所述第二锥齿轮啮合。通过电机带动锥齿轮转动,进而带动基底夹具在圆环支架上翻转,使得基底夹具上的基底翻转180°,便于对基底的另一板面进行镀膜,在操作时,无需将基底夹具和基底从真空腔中拿出进行翻面,也无需进行两次抽真空,简化操作过程,提高镀膜效率。

技术领域

本实用新型涉及工装基底夹具技术领域,具体而言,涉及一种SiO2基底PVD镀膜用转动夹具。

背景技术

物理气相沉积,即PVD镀膜,在真空条件下,采用物理的方法将固体或液体气化成气态原子、分子或离子,在低压气体的作用下,气化的原子、分子或离子在基体的表面沉积,形成薄膜。

在对基底进行镀膜时,通常会使用基底夹具将基底固定,再将固定好的基底放置到镀膜机的真空腔中进行镀膜。目前,用于固定基底夹具功能较为单一,当需要对基底进行两面镀膜时,需将基底夹具和基底从真空腔中取出,将基底翻转后,再进行第二次镀膜,需进行两次的抽真空,操作繁琐。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种SiO2基底PVD镀膜用转动夹具,在电机的输出端设置第一锥齿轮,在基底夹具上设置第二锥齿轮,通过电机带动基底夹具翻转,简化操作过程。

本实用新型提供了一种SiO2基底PVD镀膜用转动夹具,包括圆环支架、基底夹具和电机,所述圆环支架与镀膜机真空腔的内壁固定连接,所述基底夹具与所述圆环支架转动连接,所述电机的输出端设有第一锥齿轮,所述第一锥齿轮与所述圆环支架同轴;所述基底夹具的一端设有第二锥齿轮,所述第二锥齿轮的轴向与所述基底夹具的载物面平行,且所述第一锥齿轮和所述第二锥齿轮啮合。

进一步地,所述圆环支架包括第一圆环支架、第二圆环支架和多个连接杆,所述第一圆环支架和所述第二圆环支架同轴设置,且所述连接杆的一端与所述第一圆环支架固定连接,所述连接杆的另一端与所述第二圆环支架固定连接。

进一步地,所述基底夹具位于所述第一圆环支架和所述第二圆环支架之间,所述基底夹具具有第一端和第二端,所述第一端通过转轴与所述第一圆环支架转动连接,所述第二端通过转轴与所述第二圆环支架转动连接。

进一步地,所述第二圆环支架的半径小于所述第一圆环支架的半径,且所述第二锥齿轮与所述基底夹具的第二端的转轴固定连接。

进一步地,所述基底夹具包括底板和用于固定基底的盖板,所述底板和所述盖板可拆卸连接,所述底板与所述圆环支架转动连接;

所述底板设有多个第一通孔,所述盖板设于多个与所述第一通孔对应的第二通孔,所述第一通孔的内径和所述第二通孔的内径相等,且所述第一通孔的内径小于所述基底的外径。

进一步地,所述底板和所述盖板通过螺栓连接。

进一步地,所述第一通孔靠近所述盖板的一端的内壁凹设有第一圆环槽,所述第二通孔靠近所述底板的一端的内壁凹设有第二圆环槽,所述第一圆环槽和所述第二圆环槽连通,以形成用于容置所述基底边缘的容置腔。

进一步地所述基底的一板面抵接于所述第一圆环槽的内壁,所述基底的另一板面抵接于所述第二圆环槽的内壁。

与现有技术相比,本实用新型具有以下有益效果:

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