[实用新型]一种密封圈水冷保护结构及PECVD设备

权利要求书

1.一种密封圈水冷保护结构，其特征在于，包括设置于炉管(1)端部的法兰总成(2)和密封圈组(3)，所述法兰总成(2)设有至少一条水冷通道(4)，所述法兰总成(2)与炉管(1)的接触面设有导热圈(5)。

2.根据权利要求1所述的密封圈水冷保护结构，其特征在于，所述导热圈(5)将密封圈组(3)处的炉管(1)外壁的热量传导至水冷通道(4)。

3.根据权利要求1所述的密封圈水冷保护结构，其特征在于，所述法兰总成(2)包括水冷法兰(201)和进气法兰(202)，所述密封圈组(3)包括三条密封圈。

4.根据权利要求3所述的密封圈水冷保护结构，其特征在于，所述水冷通道(4)开设有两条，其中一条开设于水冷法兰(201)的内部，另一条开设于进气法兰(202)的内部。

5.根据权利要求3所述的密封圈水冷保护结构，其特征在于，所述水冷法兰(201)的内环壁开设有容纳槽(203)，所述导热圈(5)设置于容纳槽(203)内。

6.根据权利要求3所述的密封圈水冷保护结构，其特征在于，第一条密封圈为炉管(1)密封圈，其设置于水冷法兰(201)、进气法兰(202)和炉管(1)这三者的连接处。

7.根据权利要求3所述的密封圈水冷保护结构，其特征在于，第二条密封圈为炉管(1)端面垫条，其设置于进气法兰(202)与炉管(1)端面这二者的连接处。

8.根据权利要求3所述的密封圈水冷保护结构，其特征在于，所述炉管(1)的端部设有炉门端盖(101)，第三条密封圈为炉门密封圈(303)，其设置于进气法兰(202)与炉门端盖(101)这二者的连接处。

9.一种PECVD设备，包括炉管(1)，其特征在于，在所述炉管(1)的端部设有如权利要求1-8中任一项所述的密封圈水冷保护结构。