[实用新型]真空吸嘴及输送设备有效

专利信息
申请号: 202021090502.5 申请日: 2020-06-12
公开(公告)号: CN213036921U 公开(公告)日: 2021-04-23
发明(设计)人: 赖立宏;刘钊浓;陈思;蔡桂琴;邓建雨 申请(专利权)人: 欧菲影像技术(广州)有限公司
主分类号: B65G47/91 分类号: B65G47/91
代理公司: 北京恒博知识产权代理有限公司 11528 代理人: 范胜祥
地址: 510000 广东省广州*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 真空 输送 设备
【权利要求书】:

1.一种真空吸嘴,其特征在于,包括:

吸嘴部,所述吸嘴部具有与工件配合的吸合面以及与所述吸合面连接的外周面;所述吸嘴部上设置有至少一个泄气通道,所述泄气通道具有进气口和出气口;所述吸嘴部具有用于与真空源连通的吸气孔,所述吸气孔的一端口位于与所述吸合面上。

2.根据权利要求1所述的真空吸嘴,其特征在于,

所述泄气通道为凹槽,所述凹槽设置在所述吸合面与所述外周面的相交处,所述凹槽具有所述进气口和所述出气口,所述进气口位于所述外周面上,所述出气口位于所述吸合面上。

3.根据权利要求1所述的真空吸嘴,其特征在于,

所述泄气通道为凹槽,所述凹槽设置在所述吸合面与所述吸气孔的孔内壁相交处,所述凹槽具有所述进气口和所述出气口,所述进气口位于所述吸合面上,所述出气口位于所述吸气孔的孔内壁上。

4.根据权利要求2或3所述的真空吸嘴,其特征在于,

所述吸嘴部上设置有多个所述凹槽,且多个所述凹槽沿所述吸气孔的周向设置。

5.根据权利要求4所述的真空吸嘴,其特征在于,

每一所述凹槽在所述吸气孔径向上的尺寸均相同。

6.根据权利要求4所述的真空吸嘴,其特征在于,

所述凹槽包括两个侧面和一个底面,所述底面相对于所述吸合面倾斜设置,且所述底面分别与所述外周面以及所述吸合面连接。

7.根据权利要求1所述的真空吸嘴,其特征在于,

所述泄气通道为环形槽;所述环形槽沿所述吸嘴部的周向设置,所述环形槽具有所述进气口和所述出气口,所述环形槽内设置有多个支撑板,多个所述支撑板沿所述吸气孔的周向设置。

8.根据权利要求1所述的真空吸嘴,其特征在于,

所述泄气通道为通孔;所述通孔包括进气口和出气口,所述进气口位于所述外周面上,所述出气口位于所述吸合面上。

9.根据权利要求1所述的真空吸嘴,其特征在于,

所述泄气通道为通孔;所述通孔包括进气口和出气口,所述进气口位于所述吸合面上,所述出气口位于所述吸气孔的孔内壁上。

10.一种输送设备,其特征在于,包括如权利要求1至9中任一项所述的真空吸嘴。

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