[实用新型]天线组件及包括该组件的电感耦合等离子体处理装置

权利要求书

1.一种电感耦合等离子体处理装置用天线组件，其特征在于，包括：

输入天线，与外部的电源连接；

输出天线，用于向外部输出与所述输入天线连接的电源所提供的电流；

连接天线，其相对于所述输入天线和所述输出天线沿着横向配置，且一端分别连接在所述输入天线和所述输出天线；以及

桥式天线，其相对于配置有所述连接天线的平面向上方隔开配置，用于对所述连接天线之间进行连接，所述连接天线分别连接在所述输入天线和所述输出天线上。

2.根据权利要求1所述的电感耦合等离子体处理装置用天线组件，其特征在于，

向上跨越连接各个所述连接天线的自由端的所述桥式天线的形状包括一侧开放的半圆形和多角形中的一种。

3.根据权利要求1所述的电感耦合等离子体处理装置用天线组件，其特征在于，进一步包括：

电介质窗，分隔成多个；以及

框架部，具有多个框架杆，所述多个框架杆用于在平面上支撑被分隔成多个的所述电介质窗，

所述桥式天线的高度高于所述框架杆的高度，所述桥式天线用于将各个所述连接天线的自由端相连接。

4.根据权利要求1所述的电感耦合等离子体处理装置用天线组件，其特征在于，

在所述桥式天线形成有沿着高度方向隔开规定间距的多个连接部，对应于，所述连接天线对应于所述多个连接部，并以从电介质窗的板面隔开不同高度的方式调整配置位置。

5.根据权利要求4所述的电感耦合等离子体处理装置用天线组件，其特征在于，

配置在多个所述连接部中任一连接部上的所述连接天线相对于所述电介质窗的板面平行。

6.根据权利要求3所述的电感耦合等离子体处理装置用天线组件，其特征在于，

进一步包括支撑部，所述支撑部连接在所述桥式天线，以使所述输入天线、所述输出天线、所述连接天线以及所述桥式天线被支撑在天线室。

7.根据权利要求3所述的电感耦合等离子体处理装置用天线组件，其特征在于，

所述框架部具有4500mm×4000mm以上的尺寸，所述电介质窗被分隔成至少16个。

8.根据权利要求4所述的电感耦合等离子体处理装置用天线组件，其特征在于，

与所述输入天线连接的所述连接天线配置在比与所述输出天线连接的所述连接天线的高度更高的位置上。

9.根据权利要求4所述的电感耦合等离子体处理装置用天线组件，其特征在于，

所述连接天线相对于多个所述连接部进行滑动，以调整配置位置。

10.根据权利要求1所述的电感耦合等离子体处理装置用天线组件，其特征在于，

所述桥式天线包括：

一对第一桥式天线，分别连接在所述连接天线；

第二桥式天线，连接所述一对第一桥式天线；

连接部，沿着一对所述第一桥式天线的长度方向分别配置有多个所述连接部，所述第二桥式天线与所述连接部连接，所述第二桥式天线可沿着所述第一桥式天线的长度方向变更配置位置。

11.根据权利要求10所述的电感耦合等离子体处理装置用天线组件，其特征在于，

在所述输入天线和所述输出天线分别沿着长度方向形成有多个输入天线连接部和多个输出天线连接部，

所述连接天线包括：

第一连接天线，连接所述输入天线和所述第一桥式天线；

第二连接天线，连接所述输出天线和所述第一桥式天线，

所述第一连接天线和所述第二连接天线以变更配置位置的方式分别连接在所述输入天线连接部和所述连接部之间以及所述输出天线连接部和所述连接部之间。

12.一种电感耦合等离子体处理装置，其特征在于，包括：

腔室，形成对基板进行等离子体工艺处理的工艺空间；

工作台，配置于所述工艺空间内部，用于支撑所述基板；

高频电源部，配置于所述腔室的外部，用于施加高频电源；以及

根据权利要求1至11中任一项所述的电感耦合等离子体处理装置用天线组件，其连接于所述高频电源部，用于在所述工艺空间生成对所述基板进行工艺处理所需的电感耦合等离子体。