[实用新型]一种碳化硅涂层生产用化学气相沉积炉

说明书

本实用新型提供一种碳化硅涂层生产用化学气相沉积炉。碳化硅涂层生产用化学气相沉积炉，包括：炉体；两个支撑杆，两个所述支撑杆均设于所述炉体内；两个安装板，两个所述安装板固定安装在两个支撑杆的顶端和底端；两个螺纹杆，两个所述螺纹杆均转动安装在两个所述安装板上。本实用新型提供的碳化硅涂层生产用化学气相沉积炉具有能够对管状基体进行有效的固定同时也能够避免支承装置不与管状基体需要沉积碳化硅涂层的外表面不与接触而完全裸露出来、使碳化硅涂层沉积均匀而不遗漏、提高产品的性能、可使输送的气体原材料能够均匀地分布、提高沉积速率、提高碳化硅涂层的致密性和均匀性、提高产品质量的优点。

技术领域

本实用新型涉及化学气相沉积技术领域，尤其涉及一种碳化硅涂层生产用化学气相沉积炉。

背景技术

碳化硅具有优异的物理化学性能，如高熔点、高硬度、耐腐蚀、抗氧化等，特别是在1800-2000℃范围，具有良好的抗烧蚀性能，因此，在航空航天、兵器装备等领域具有广阔的应用前景。但碳化硅本身不能作为结构材料使用，所以通常采用制备涂层的方法，以利用其耐磨性以及抗烧蚀性。碳化硅涂层一般是采用物理或化学气相沉积、喷涂等方法在零件表面制备碳化硅涂层。其中，化学气相沉积的方法较为常用。化学气相沉积，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料。一般地，化学气相沉积可以理解为两种或两种以上的气态原材料导入到一个反应室内，然后两种原材料之间发生气相热分解反应，形成一种新的材料，沉积到基体晶片表面上，使得基体获得更好的表面质量效果；其中，气体原材料一般为金属蒸气、挥发性金属卤化物、氢化物或金属有机化合物等气体。

在传统的碳化硅涂层生产用的化学气相沉积炉中，通常是将基体放置在沉积炉中的支承装置上。但是在对管状基体外表面上使用化学气相沉积的方式加以碳化硅涂层时，不容易对管状基体进行固定，并且，如果管状基体的外表面与支承装置有接触的话，还会导致接触面无法有效的沉积到碳化硅涂层，使产品质量下降，降低产品的性能。此外，化学气相沉积工艺中，气体原材料的均匀分布可以加快沉积速率，以及使得膜层的致密性和均匀性更好，其中，沉积薄膜的均匀性对于基体来说极其重要。而传统的化学气相沉积炉在对炉内输送气体时，一般是一个输气管直接输入炉内，输送管道比较单一，容易导致气体原材料的分布不均匀，容易降低沉积速率，使碳化硅涂层的致密性和均匀性较差，从而使产品质量降低。

因此，有必要提供一种碳化硅涂层生产用化学气相沉积炉解决上述技术问题。

实用新型内容

本实用新型解决的技术问题是提供一种能够对管状基体进行有效的固定同时也能够避免支承装置不与管状基体需要沉积碳化硅涂层的外表面不与接触而完全裸露出来、使碳化硅涂层沉积均匀而不遗漏、提高产品的性能、可使输送的气体原材料能够均匀地分布、提高沉积速率、提高碳化硅涂层的致密性和均匀性、提高产品质量的碳化硅涂层生产用化学气相沉积炉。

为解决上述技术问题，本实用新型提供的碳化硅涂层生产用化学气相沉积炉，包括：炉体；两个支撑杆，两个所述支撑杆均设于所述炉体内；两个安装板，两个所述安装板固定安装在两个支撑杆的顶端和底端；两个螺纹杆，两个所述螺纹杆均转动安装在两个所述安装板上；四个滑块，四个滑块分别滑动安装在两个所述支撑杆上；四个螺纹块，四个所述螺纹块分别螺纹安装在两个所述螺纹杆上；四个连接杆，四个所述连接杆分别固定安装在四个所述螺纹块的一侧；四个挤压块，四个所述挤压块分别固定安装在四个所述连接杆上；两个把手，两个把手分别固定安装在两个所述螺纹杆的顶端；两个固定杆，两个所述固定杆固定安装在靠近所述把手的所述安装板的顶部；拉环，所述拉环固定安装在两个固定杆的顶端；四个支脚，四个支脚均固定安装在远离所述把手的所述安装板的底部；顶盖，所述顶盖铰接在所述炉体的顶部；输气管，所述输气管固定安装在所述炉体的底部。

优选的，所述螺纹块与相应的所述滑块固定连接。

优选的，两个所述安装板上均开设有大圆孔。