[实用新型]一种可测量单晶硅片平整度的装置

权利要求书

1.一种可测量单晶硅片平整度的装置，包括工作台（5），其特征在于：所述工作台（5）顶端中部固定设置有放置板（11），所述工作台（5）前侧右侧端固定设置有控制面板（7），所述工作台（5）顶端两侧均固定设置有伸缩安装杆（8），所述伸缩安装杆（8）顶端之间固定设置有调节杆（10），所述调节杆（10）外部右侧活动设置有调节块（9），所述调节块（9）底端固定设置有固定套杆（12），所述固定套杆（12）底端活动设置有固定杆（16），所述固定杆（16）底端固定设置有导轮（6），所述固定杆（16）顶端伸在固定套杆（12）内部，所述固定杆（16）顶端与固定套杆（12）内部顶端之间固定设置有复位弹簧（14），所述固定套杆（12）内部两侧均固定设置有接触面板（13），所述固定杆（16）外部上端固定设置有电子测量头（15），所述电子测量头（15）两侧均与接触面板（13）活动接触，所述接触面板（13）、电子测量头（15）均通过导线与控制面板（7）电性连接。

2.根据权利要求1所述的一种可测量单晶硅片平整度的装置，其特征在于：所述工作台（5）底端固定设置有固定框（2），所述固定框（2）内部底端通过安装座固定设置有电机（4），所述电机（4）的输出端固定设置有转杆（3），所述转杆（3）顶端穿过工作台（5）与放置板（11）底端固定连接，所述固定框（2）内部一侧固定设置有蓄电池（1），所述控制面板（7）通过导线分别与蓄电池（1）、电机（4）电性连接，所述蓄电池（1）通过导线与电机（4）电性连接。

3.根据权利要求1所述的一种可测量单晶硅片平整度的装置，其特征在于：所述工作台（5）中部开设有转孔，所述工作台（5）底端中部固定设置有轴承。

4.根据权利要求1所述的一种可测量单晶硅片平整度的装置，其特征在于：所述放置板（11）底端四周固定设置有环型滑环（18），所述工作台（5）顶端四周开设有环型滑槽（17）且环型滑环（18）与环型滑槽（17）内部滑动连接。

5.根据权利要求1所述的一种可测量单晶硅片平整度的装置，其特征在于：所述放置板（11）顶端固定设置有橡胶层。

6.根据权利要求2所述的一种可测量单晶硅片平整度的装置，其特征在于：所述固定框（2）顶端四周与工作台（5）之间均固定设置有连接轴板。