[实用新型]石墨舟卡点、石墨舟片及石墨舟有效

专利信息
申请号: 202020997254.6 申请日: 2020-06-03
公开(公告)号: CN212223099U 公开(公告)日: 2020-12-25
发明(设计)人: 谢毅;周公庆;马志强;陈坤;王璞 申请(专利权)人: 通威太阳能(眉山)有限公司
主分类号: C23C16/458 分类号: C23C16/458;C23C16/50
代理公司: 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 代理人: 唐菲
地址: 620000 四川省*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 石墨 舟卡点
【说明书】:

本申请提供一种石墨舟卡点、石墨舟片及石墨舟,涉及晶硅太阳能电池生产制造技术领域。石墨舟卡点包括固定部以及设置在固定部两端的卡点部。其中,每个卡点部包括承载部以及卡接部。承载部与固定部连接,卡接部与承载部远离固定部的一端连接,卡接部面向固定部的一端的端面作为抵接面,抵接面、承载部的周壁以及固定部的端面共同限定卡槽,抵接面设有凹槽。通过上述石墨舟卡点能够保证在插入卡槽内的硅片被有效压紧固定,极大程度的降低巨型硅片与石墨舟片之间贴合不紧密出现的缝隙的问题,降低膜厚差别较大的问题的产生,同时减少由于氮化硅缺失的外观问题引起不良影响。

技术领域

本申请涉及晶硅太阳能电池生产制造技术领域,具体而言,涉及一种石墨舟卡点、石墨舟片及石墨舟。

背景技术

传统晶硅太阳能电池基本上只采用正面钝化技术,在硅片正面用PECVD的方式沉积一层氮化硅,降低少子在前表面的复合速率,可以大幅度提升晶硅电池的开路电压和短路电流,从而提升晶硅太阳电池的光电转换效率。而现在普遍采用PERC技术,所以也在硅片的背面使用管式镀膜设备制备背面氧化铝和氮化硅叠层的钝化层,对硅片进行钝化。所以无论是背面还是正面镀膜都使用到了PECVD管式炉。

石墨舟是一种在等离子体增强型化学气相沉积(PECVD)管式炉内,对经过制绒及扩散等工艺处理后的多晶或单晶硅片的表面采用等离子体增强型化学气相沉积工艺进行氮化硅薄膜沉积的承载工具。石墨舟是由石墨舟片、导电块、陶瓷杆、石墨杆、陶瓷管、石墨螺母等组成。目前硅片的尺寸越来越大,行业内都开始布局大尺寸的硅电池,已经有大量公司开始制作巨型尺寸的电池,所以也有对应尺寸的PECVD管式镀膜设备。

巨型尺寸硅片也即将成为未来大尺寸电池的一个方向,但是,巨型尺寸的硅片容易出现膜厚差别较大的问题,而增大石墨舟卡点的尺寸则容易产生因氮化硅缺失导致的不良产品。

有鉴于此,特此提出本申请。

实用新型内容

本申请实施例的目的在于提供一种石墨舟卡点、石墨舟片及石墨舟,其能够改善上述问题。

第一方面,本申请实施例提供一种石墨舟卡点,其包括固定部以及设置在固定部两端的卡点部。

其中,每个卡点部包括承载部以及卡接部。

承载部与固定部连接,卡接部与承载部远离固定部的一端连接,卡接部面向固定部的一端的端面作为抵接面,抵接面、承载部的周壁以及固定部的端面共同限定卡槽,抵接面设有凹槽。

在上述实现过程中,通过在抵接面设置凹槽的设置方式,能够保证在插入卡槽内的硅片被有效压紧固定,极大程度的降低巨型硅片与石墨舟片之间贴合不紧密出现的缝隙的问题,降低膜厚差别较大的问题的产生,同时由于凹槽的设置,能够有效减小硅片与抵接面的接触面积,减少由于氮化硅缺失的外观问题引起不良影响。

在一种可能的实施方案中,抵接面与凹槽的连接处圆滑过渡。

在一种可能的实施方案中,抵接面与卡接部的周壁的连接处圆滑过渡。

在上述实现过程中,通过圆滑过渡的连接处能够有效防止硅片插入或取出的过程中,硅片表面的涂层被破坏。

在一种可能的实施方案中,卡接部由第一端向第二端延伸所得,抵接面为第一端的端面,卡接部的部分或全部自第一端向第二端逐渐扩张。

在上述实现过程中,卡接部的结构进一步限定插入的硅片受到重力势能不能发生侧移,进一步与卡槽配合保证硅片与石墨舟片贴合紧密。

可选地,卡接部的部分或全部自第一端向第二端逐渐扩张形成圆台状。

在一种可能的实施方案中,固定部、承载部以及卡接部同轴连接。

在一种可能的实施方案中,固定部、承载部均为圆柱体。

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