[实用新型]一种用于生产PVD用靶材锭坯的装粉装置

说明书

本实用新型提供一种用于生产PVD用靶材锭坯的装粉装置，包括用于盛装金属粉末的料桶和吊装机构，所述料桶的底端连通一装料管，所述装料管的高度大于或等于待装粉的包套管的高度，所述吊装机构用于吊起所述料桶并驱动所述装料管沿所述包套管的延伸方向移动以调整所述装料管插入所述包套管内的深度，本实用新型既能显著提升装粉作业效率又可以提升产品质量。

技术领域

本实用新型属于PVD用靶材生产的技术领域，具体涉及一种用于生产PVD用靶材锭坯的装粉装置。

背景技术

物理气相沉积(PVD)技术是指在真空条件下，采用物理方法，将材料源—固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体(或等离子体)在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜，还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。PVD技术被广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域，可制备具有耐磨、耐腐蚀、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导等特性的膜层。常见PVD用靶材有Cr靶、Ti靶、Al靶等纯金属靶以及CrAl、TiAl等合金靶材。

热等静压(Hot IsostaticPressing，简称HIP)工艺是将制品放置到密闭的容器中，向制品施加各向同等的压力，同时施以高温，在高温高压的作用下，制品得以烧结和致密化。热等静压是高性能材料生产和新材料开发不可或缺的手段。热等静压可以直接粉末成型，即将粉末装入金属或陶瓷制作的包套中，然后使用氮气、氩气作加压介质，使粉末直接加热加压烧结成型的粉末冶金工艺。

目前，PVD镀膜用Cr靶主要通过热等静压的成型方式生产，首先根据靶的不同尺寸设计不同大小的包套管，然后将Cr粉装入制作好的包套管中，再将装有Cr粉的包套管真空脱气、密封，最后将脱气后的包套管通过热等静压机高温高压烧结成Cr锭坯。

在上述成型方式中，将“Cr粉装入包套管中”这一工序对Cr靶的生产效率和产品质量至关重要，这一过程既需要保证装粉量足够多，又要保证装粉过程中不会引入杂质、异物等。而目前，行业内的装粉操作仅仅依靠不锈钢铲，生产效率低，而且容易引入杂质等，产品质量亦无法保证。特别是对于长径比较大的包套管，其装粉难度更高，这是因为在装粉过程中，不仅需要充分排出包套管里面的空气以充填更多的Cr粉，同时又要保证较高的装粉效率以降低企业的生产成本。因此，亟需专用的装粉装置来解决上述问题。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了克服现有技术中Cr粉的装粉过程效率低、容易引入杂质等问题，而提出一种用于生产PVD用靶材锭坯的装粉装置。

为了实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种用于生产PVD用靶材锭坯的装粉装置，包括用于盛装金属粉末的料桶和吊装机构，所述料桶的底端连通一装料管，所述装料管的高度大于或等于待装粉的包套管的高度，所述吊装机构用于吊起所述料桶并驱动所述装料管沿所述包套管的延伸方向移动以调整所述装料管插入所述包套管内的深度。

如上所述的用于生产PVD用靶材锭坯的装粉装置，优选地，还包括防尘桶盖，所述防尘桶盖盖设于所述料桶的顶端。

如上所述的用于生产PVD用靶材锭坯的装粉装置，优选地，所述料桶、防尘桶盖和装料管均采用不锈钢制作而成，且所述料桶和装料管的内壁均经过抛光处理。

如上所述的用于生产PVD用靶材锭坯的装粉装置，优选地，所述料桶的底端还设有阀门，所述阀门用于控制所述装料管的通断。

如上所述的用于生产PVD用靶材锭坯的装粉装置，优选地，所述阀门为球阀。

如上所述的用于生产PVD用靶材锭坯的装粉装置，优选地，所述吊装机构包括吊板，所述吊板位于所述料桶的上方，所述吊板的底端对称设有吊钩，所述料桶的外壁对称设有挂耳，所述吊钩与所述挂耳上下对应设置，且所述吊钩与所述挂耳相勾挂连接。