[实用新型]一种真空镀膜机有效
申请号: | 202020964469.8 | 申请日: | 2020-05-29 |
公开(公告)号: | CN212533113U | 公开(公告)日: | 2021-02-12 |
发明(设计)人: | 李勇聪;梁凤连;梁金培;唐光安 | 申请(专利权)人: | 深圳市信濠光电科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/50 | 分类号: | C23C14/50;C23C14/02;C23C14/14;C23C14/56 |
代理公司: | 深圳市深可信专利代理有限公司 44599 | 代理人: | 彭光荣 |
地址: | 518000 广东省深圳市宝安区福*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 真空镀膜 | ||
本实用涉及镀膜设备技术领域,具体涉及一种真空镀膜机,其包括真空箱、设于真空箱外用于对真空箱抽真空的抽真空机构和设于真空箱内的材料架、第一镀膜机构、传动机构、驱动机构、第二镀膜机构、第三镀膜机构以及离子源清洗机构;所述材料架用于承载待镀膜的基片;所述第一镀膜机构用于对材料架上的基片镀防指纹膜;所述传动机构用于带动材料架和第一镀膜机构转动;所述驱动机构用于驱动传动机构转动;所述第二镀膜机构用于对材料架上的基片镀硅膜;所述第三镀膜机构用于对材料架上的基片镀抗菌膜;所述离子源清洗机构用于向真空腔内释放等离子体对材料架上的基片进行清洗。本实用新型的真空镀膜机可以同时对基片镀多种膜层。
技术领域
本实用新型涉及镀膜设备技术领域,具体涉及一种真空镀膜机。
背景技术
真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜设备,其镀膜方式具体包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种,应用较多的是蒸发和溅射两种,蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,并且沉降在基片表面,经历成膜过程后形成薄膜。
现有技术的真空镀膜机功能较单一,一般只能对基片镀一种类型的膜层,镀膜时需要多个设备配合完成基片的镀膜工作。
实用新型内容
为了克服现有技术的不足,本实用新型提供一种真空镀膜机,其可以同时对基片镀多种膜层。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:
一种真空镀膜机,其包括真空箱、设于真空箱外用于对真空箱抽真空的抽真空机构和设于真空箱内的材料架、第一镀膜机构、传动机构、驱动机构、第二镀膜机构、第三镀膜机构以及离子源清洗机构;
所述材料架用于承载待镀膜的基片;
所述第一镀膜机构用于对材料架上的基片镀防指纹膜;
所述传动机构用于带动材料架和第一镀膜机构转动;
所述驱动机构用于驱动传动机构转动;
所述第二镀膜机构用于对材料架上的基片镀硅膜;
所述第三镀膜机构用于对材料架上的基片镀抗菌膜;
所述离子源清洗机构用于向真空腔内释放等离子体对材料架上的基片进行清洗。
其中,所述真空箱包括真空室和分别与真空室两相对侧铰接的两个材料室,每个所述材料室均能与真空室合并形成密封腔体,每个所述材料室内均设有材料架、第一镀膜机构和传动机构,所述驱动机构、第二镀膜机构、第三镀膜机构和离子源清洗机构设于真空室内,当所述材料室与真空室合并时,所述驱动机构驱动传动机构转动。
其中,所述传动机构包括转轴、连接架、承载件、主动齿轮和多个从动齿轮,所述转轴转动设于材料室内,所述连接架的中心、承载件的中心和主动齿轮的中心与转轴固定连接,所述材料架设置有多个,多个所述材料架沿主动齿轮的圆周边缘周向间隔设于承载件上,所述材料架的上端通过第一连接杆与连接架转动连接,所述驱动机构用于驱动承载件转动,所述材料架的下端通过第二连接杆与承载件转动连接,所述从动齿轮固定设于第二连接杆上,所述从动齿轮与主动齿轮啮合。
其中,所述承载件为承载齿轮,所述驱动机构包括设于真空室内的驱动齿轮和用于驱动驱动齿轮转动的电机,当所述材料室和真空室合并时,所述驱动齿轮和承载齿轮啮合。
其中,每个所述材料架的表面包覆有承载膜,所述承载膜远离材料架的一面粘贴双面胶带,所述双面胶带用于粘贴玻璃盖板表面的保护膜。
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