[实用新型]一种真空镀膜机

权利要求书

1.一种真空镀膜机，其特征在于：包括真空箱、设于真空箱外用于对真空箱抽真空的抽真空机构和设于真空箱内的材料架、第一镀膜机构、传动机构、驱动机构、第二镀膜机构、第三镀膜机构以及离子源清洗机构；

所述材料架用于承载待镀膜的基片；

所述第一镀膜机构用于对材料架上的基片镀防指纹膜；

所述传动机构用于带动材料架和第一镀膜机构转动；

所述驱动机构用于驱动传动机构转动；

所述第二镀膜机构用于对材料架上的基片镀硅膜；

所述第三镀膜机构用于对材料架上的基片镀抗菌膜；

所述离子源清洗机构用于向真空腔内释放等离子体对材料架上的基片进行清洗。

2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜机，其特征在于：所述真空箱包括真空室和分别与真空室两相对侧铰接的两个材料室，每个所述材料室均能与真空室合并形成密封腔体，每个所述材料室内均设有材料架、第一镀膜机构和传动机构，所述驱动机构、第二镀膜机构、第三镀膜机构和离子源清洗机构设于真空室内，当所述材料室与真空室合并时，所述驱动机构驱动传动机构转动。

3.根据权利要求2所述的一种真空镀膜机，其特征在于：所述传动机构包括转轴、连接架、承载件、主动齿轮和多个从动齿轮，所述转轴转动设于材料室内，所述连接架的中心、承载件的中心和主动齿轮的中心与转轴固定连接，所述材料架设置有多个，多个所述材料架沿主动齿轮的圆周边缘周向间隔设于承载件上，所述材料架的上端通过第一连接杆与连接架转动连接，所述驱动机构用于驱动承载件转动，所述材料架的下端通过第二连接杆与承载件转动连接，所述从动齿轮固定设于第二连接杆上，所述从动齿轮与主动齿轮啮合。

4.根据权利要求3所述的一种真空镀膜机，其特征在于：所述承载件为承载齿轮，所述驱动机构包括设于真空室内的驱动齿轮和用于驱动驱动齿轮转动的电机，当所述材料室和真空室合并时，所述驱动齿轮和承载齿轮啮合。

5.根据权利要求3所述的一种真空镀膜机，其特征在于：每个所述材料架的表面包覆有承载膜，所述承载膜远离材料架的一面粘贴双面胶带，所述双面胶带用于粘贴玻璃盖板表面的保护膜。

6.根据权利要求3所述的一种真空镀膜机，其特征在于：所述第一镀膜机构包括用于放置AF药丸的导电药丸架和与导电药丸架电连接的电源，所述导电药丸架包括下端与主动齿轮固定连接的两根导电支柱、从下至上设于两根导电支柱之间的多个第一承载组件，所述第一承载组件包括分别与两根导电支柱连接的两根导电连接杆、一端分别与两根导电连接杆连接的两根导电带和设于两根导电带之间用于放置AF药丸的导电药丸盘，所述导电连接杆远离导电支柱的一端设有导电定位盖，所述导电定位盖上转动连接第一锁紧螺杆，所述第一锁紧螺杆与导电连接杆的端部螺纹连接，所述导电带夹设于导电定位盖和导电连接杆之间。

7.根据权利要求6所述的一种真空镀膜机，其特征在于：所述导电药丸架还包括设于导电支柱远离第一承载组件一侧的多个第二承载组件，所述第二承载组件的结构与第一承载组件的结构相同且对称设置。

8.根据权利要求7所述的一种真空镀膜机，其特征在于：所述真空室内设有第一靶材腔，所述第一靶材腔的开口处滑动设置用于封闭第一靶材腔开口的第一挡板，所述第二镀膜机构设于第一靶材腔内，所述第二镀膜机构包括硅靶和用于对硅靶进行加热的第一加热器。

9.根据权利要求2所述的一种真空镀膜机，其特征在于：所述真空室内设有第二靶材腔，所述第二靶材腔的开口处滑动设置用于封闭第一靶材腔开口的第二挡板，所述第三镀膜机构包括钛银复合靶和用于对钛银复合靶进行加热的第二加热器。

10.根据权利要求2所述的一种真空镀膜机，其特征在于：所述真空室内设有清洗腔，所述离子源清洗机构包括设于真空箱外用于向清洗腔内通入清洁气体的气体输送装置和固定设于清洗腔内的两个电极，两个所述电极分别与外部的高压中频电源电连接，所述清洗腔的开口与真空室连通。