[实用新型]一种半导体设备WCVD装置Dome陶瓷部件密封面密封性检测治具

说明书

本实用新型公开了一种半导体设备WCVD装置Dome陶瓷部件密封面密封性检测治具，包括检测箱、O型圈槽和推拉手把，所述检测箱的顶部通过螺栓安装有放置面板，所述检测箱的一侧设置有真空管道，所述真空管道的一端设置有气体注入口，所述检测箱的一端通过定位螺栓安装有计时器，所述检测箱的内部通过安装架及螺栓安装有O型圈槽，所述检测箱的内表层设置有耐污层。该新型功能多样，操作简单，便于生产，满足了使用中的多种需求，适合广泛推广使用。

技术领域

本实用新型涉及密封性检测技术领域，特别涉及一种半导体设备WCVD装置Dome陶瓷部件密封面密封性检测治具。

背景技术

在对半导体行业设备洗净再生恢复的过程中包括成品的性能状态要做到实时监控，但是有些特殊的性能是不能够通过肉眼或者简单的设备工具来检测的，Dome陶瓷的密封面在使用过程中非常的关键，在洗净再生作业的过程中我们必须及时的了解他的密封性，之前的作业因为没有较好的方法来检测密封面密封性，所以Dome成品的这项性能指标一直没有做到监控与掌握。现有的检测效果不明显，精确度低，为此，我们提出一种半导体设备 WCVD装置Dome陶瓷部件密封面密封性检测治具。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种半导体设备WCVD装置Dome陶瓷部件密封面密封性检测治具，可以有效解决背景技术中的问题。

为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案为：

一种半导体设备WCVD装置Dome陶瓷部件密封面密封性检测治具，包括检测箱、O型圈槽和推拉手把，所述检测箱的顶部通过螺栓安装有放置面板，所述检测箱的一侧设置有真空管道，所述真空管道的一端设置有气体注入口，所述检测箱的一端通过定位螺栓安装有计时器，所述检测箱的内部通过安装架及螺栓安装有O型圈槽，所述检测箱的内表层设置有耐污层。

进一步地，所述气体注入口上通过螺钉安装有控制阀。

进一步地，所述耐污层为有机硅涂层。

进一步地，所述检测箱的两端通过螺钉安装有推拉手把，且推拉手把内侧设置有放手槽。

进一步地，所述气体注入口与检测箱相连通，所述检测箱的底部通过螺栓安装有可制动万向轮。

与现有技术相比，本实用新型具有如下有益效果：

1.将待检测的WCVD装置Dome陶瓷部件放入检测箱内的O 型圈槽中，氦检仪通过真空管道向Dome陶瓷部件腔体内抽真空，真空度达到标定值后用氦气枪的输出端连接气体注入口并且开启控制阀，在Dome陶瓷部件密封面周围通入氦气，通过氦检仪面板上的显示值来判断密封面的泄露情况，也可以找到泄露位置。

2.测完后破掉腔体内的真空环境拿出Dome陶瓷，即完成冲洗作业，利用计时器便于掌握检测的时间数值，提高检测的准确性，并且耐污层为有机硅涂层，具有耐高低温、电气绝缘、耐氧化稳定性、耐候性、难燃、憎水、耐腐蚀、无毒无味以及生理惰性等优异特性，对检测箱很好的起到保护的作用。

附图说明

图1为本实用新型一种半导体设备WCVD装置Dome陶瓷部件密封面密封性检测治具的侧视图。

图2为本实用新型一种半导体设备WCVD装置Dome陶瓷部件密封面密封性检测治具的剖面图。

图3为本实用新型一种半导体设备WCVD装置Dome陶瓷部件密封面密封性检测治具的耐污层结构示意图。

图中：1、放置面板；2、真空管道；3、气体注入口；4、控制阀；5、耐污层；6、检测箱；7、计时器；8、推拉手把；9、放手槽；10、O型圈槽。

具体实施方式