[实用新型]一种等离子废气处理系统

说明书

一种等离子废气处理系统，属于废气处理技术领域。包括反应腔,反应腔内配合设置等离子体发生器，等离子体发生器上设置工艺进气口，反应腔底部出口与初级水洗系统配合连接，初级水洗系统出口分别与次级水洗冷却系统、过滤系统配合连接；还包括水幕系统，水幕系统的水幕法兰固定安装在反应腔顶部，水幕法兰下方形成的水幕墙位于反应腔内；水幕系统、等离子体发生器、初级水洗系统、次级水洗冷却系统、过滤系统与电气控制器电控配合。上述一种等离子废气处理系统，利用等离子产生2000‑12000℃火炬，通过高温对废气进行燃烧，大幅度提升处理率，处理率能达到99%，使废气分解为无污染气体，其处理高效，稳定可靠,运维成本低。

技术领域

本发明属于废气处理技术领域，具体为一种等离子废气处理系统。

背景技术

工业废气处理是改善大气污染问题，推动绿色、循环、低碳发展的关键，传统的废气处理采用的是天然气燃烧处理的方式，这种方式成本较高，且本身会产生大量二氧化碳温室气体的排放，尾气处理率并不理想，且对含氟等废气无法处理，有很多局限性。

实用新型内容

针对现有技术中存在的上述问题，本实用新型的目的在于设计提供一种等离子废气处理系统的技术方案，利用等离子产生2000-12000℃火炬，通过高温对废气进行燃烧，大幅度提升处理率，处理率能达到99%，使废气分解为无污染气体，其处理高效，稳定可靠,运维成本低。

所述的一种等离子废气处理系统，其特征在于包括反应腔, 反应腔内配合设置等离子体发生器，等离子体发生器上设置工艺进气口，反应腔底部出口与初级水洗系统配合连接，初级水洗系统出口分别与次级水洗冷却系统、过滤系统配合连接；还包括水幕系统，水幕系统的水幕法兰固定安装在反应腔顶部，水幕法兰下方形成的水幕墙位于反应腔内；水幕系统、等离子体发生器、初级水洗系统、次级水洗冷却系统、过滤系统与电气控制器电控配合。

所述的一种等离子废气处理系统，其特征在于所述的过滤系统包括依次配合连接的初级过滤系统、后段水洗过滤系统、水气颗粒吸附过滤系统，各个接口采用简易快拆抱箍配合连接。

所述的一种等离子废气处理系统，其特征在于初级水洗系统包括初级水洗腔体，初级水洗腔体内设置左端设置横向高流量喷嘴、顶部设置纵向高流量喷嘴，横向高流量喷嘴、顶部设置纵向高流量喷嘴喷射螺旋雾状喷流。

所述的一种等离子废气处理系统，其特征在于等离子体发生器设置四个或六个独立的工艺进气口，等离子体发生器的离子体炬长度为150-300mm。

所述的一种等离子废气处理系统，其特征在于水幕墙的长度为500-700mm，水幕法兰内外表面喷涂特氟龙涂层。

所述的一种等离子废气处理系统，其特征在于后段水洗过滤系统包括后段水洗过滤腔体，后段水洗过滤腔体内设置一组高流量水洗喷嘴和大量非金属拉西环，后段水洗过滤腔体内设置温度传感器一、负压监测传感器，后段水洗过滤腔体连接设置CDA进气口。

所述的一种等离子废气处理系统，其特征在于次级水洗冷却系统包括次级水洗冷却腔体，次级水洗冷却腔体内设置循环换热器、温度传感器二，次级水洗冷却腔体外部设置液体泄漏监控装置，次级水洗冷却腔体内部整体喷涂特氟龙涂层。

上述一种等离子废气处理系统，为了处理生产过程产生的SiH₄、NH₃、TMA、N_2O、H₂、CF₄、NF₃、AsH₃、PH₃、HF、HCl、SiF₄、SF₆等各种工业废气，实现无害排放，该系统利用等离子产生2000-12000℃火炬，通过高温对废气进行燃烧，大幅度提升处理率，处理率能达到99%，使废气分解为无污染气体；其处理高效，稳定可靠,运维成本低。

附图说明