[实用新型]一种大尺寸公斤级碳化硅单晶生长用坩埚有效

专利信息
申请号: 202020782967.0 申请日: 2020-05-12
公开(公告)号: CN212895082U 公开(公告)日: 2021-04-06
发明(设计)人: 刘欣宇;袁振洲 申请(专利权)人: 江苏超芯星半导体有限公司
主分类号: C30B23/00 分类号: C30B23/00;C30B25/00;C30B29/36
代理公司: 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 代理人: 王佳妹
地址: 225000 江苏省扬州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 尺寸 公斤 碳化硅 生长 坩埚
【权利要求书】:

1.大尺寸公斤级碳化硅单晶生长用坩埚,其特征在于,该坩埚包括坩埚盖和坩埚体,所述坩埚盖与籽晶连接,所述坩埚底部中心开孔,所述坩埚上侧壁留有气孔,坩埚体为碳化硅单晶生长腔体。

2.根据权利要求1所述的大尺寸公斤级碳化硅单晶生长用坩埚,其特征在于,所述坩埚盖无开孔,厚5~40mm,与坩埚体连接方式为螺纹、卡槽或螺母。

3.根据权利要求1所述的大尺寸公斤级碳化硅单晶生长用坩埚,其特征在于,所述坩埚体为圆台状,中空。

4.根据权利要求1所述的大尺寸公斤级碳化硅单晶生长用坩埚,其特征在于,所述坩埚体侧壁厚5~30mm,底厚5~40mm。

5.根据权利要求1所述的大尺寸公斤级碳化硅单晶生长用坩埚,其特征在于,所述坩埚侧壁与底部的夹角为45~85°。

6.根据权利要求1所述的大尺寸公斤级碳化硅单晶生长用坩埚,其特征在于,所述坩埚底部中心开孔,尺寸5~30mm。

7.根据权利要求1所述的大尺寸公斤级碳化硅单晶生长用坩埚,其特征在于,所述坩埚上侧壁留有气孔,所述气孔的位置距离坩埚体上边缘1~10mm。

8.根据权利要求1所述的大尺寸公斤级碳化硅单晶生长用坩埚,其特征在于,所述侧壁的气孔的直径为0.5~10mm。

9.根据权利要求1所述的大尺寸公斤级碳化硅单晶生长用坩埚,其特征在于,所述侧壁的气孔的排数为1~10排,每排之间的间距为1~10mm,每排气孔的数量为1~10个,每排气孔的分布为均匀轴对称。

10.根据权利要求1所述的大尺寸公斤级碳化硅单晶生长用坩埚,其特征在于,所述坩埚的排气孔镀有耐高温耐腐蚀涂层,包括碳化钽或碳化钨,涂层厚度为1~500μm。

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