[实用新型]半导体制程用的降温结构及其降温系统有效

专利信息
申请号: 202020742140.7 申请日: 2020-05-08
公开(公告)号: CN212013385U 公开(公告)日: 2020-11-24
发明(设计)人: 张宝曜;张宝杰;江明翰 申请(专利权)人: 博斯科技股份有限公司
主分类号: H05K7/20 分类号: H05K7/20;H01L21/67
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;安利霞
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 半导体 制程用 降温 结构 及其 系统
【权利要求书】:

1.一种半导体制程用的降温结构,其特征在于,包括:

一降温模块,所述降温模块包括一载台,所述载台呈圆盘状,且所述载台介于6寸至16寸之间,所述载台的工作温度介于0度至50度之间,所述载台的一侧面放置至少一待测物,所述载台的另一侧面设置至少一制冷芯片,所述制冷芯片的一侧面连接至少两个水冷排结构,所述载台通过多个连接件锁固连接所述多个水冷排结构,使所述制冷芯片稳固于所述载台及所述多个水冷排结构之间;

一温度控制模块,所述温度控制模块电性连接所述降温模块,所述温度控制模块调节所述制冷芯片的工作温度;以及

一电源供应模块,所述电源供应模块提供电能给所述降温模块及所述温度控制模块。

2.根据权利要求1所述的半导体制程用的降温结构,其特征在于,所述载台的厚度介于0.8公分至1公分之间。

3.根据权利要求1所述的半导体制程用的降温结构,其特征在于,所述多个水冷排结构的轮廓形状选自圆形或矩形的其中之一,而所述多个水冷排结构内部的结构呈连续弯曲设置或呈环绕设置。

4.根据权利要求1所述的半导体制程用的降温结构,其特征在于,所述载台的材质为铝。

5.根据权利要求1所述的半导体制程用的降温结构,其特征在于,所述载台的一侧面设置多个制冷芯片,所述多个制冷芯片为并联设置,所述多个制冷芯片平均分布在所述载台的一侧面。

6.根据权利要求1所述的半导体制程用的降温结构,其特征在于,所述制冷芯片的形状为扇形。

7.根据权利要求1所述的半导体制程用的降温结构,其特征在于,所述载台的周围穿设多个穿孔,而所述多个水冷排结构的周围穿设多个连接孔,所述多个穿孔对应所述多个连接孔,所述多个连接件为螺丝,所述多个连接件分别穿设所述多个穿孔及所述多个连接孔,使所述载台锁固连接所述多个水冷排结构。

8.一种半导体制程用的降温系统,其特征在于,包括:

至少一降温模块,所述降温模块包括一载台,所述载台呈圆盘状,且所述载台介于6寸至16寸之间,所述载台的工作温度介于0度至50度之间,所述载台的一侧面放置至少一待测物,所述载台的另一侧面设置至少一制冷芯片,所述制冷芯片的一侧面连接至少两个水冷排结构,所述载台通过多个连接件锁固连接所述多个水冷排结构,使所述制冷芯片稳固于所述载台及所述多个水冷排结构之间;

至少一温度控制模块,所述温度控制模块电性连接所述降温模块,所述温度控制模块调节所述多个制冷芯片的工作温度;

一电源供应模块,所述电源供应模块提供电能给所述降温模块及所述温度控制模块;以及

一供水模块,所述供水模块连接所述降温模块,所述供水模块包括至少两个输液管,所述多个输液管连接所述多个水冷排结构,使所述供水模块与所述多个水冷排结构相连通,并且形成循环回路,所述供水模块提供一工作液体给所述多个水冷排结构,所述工作液体的工作温度介于18度至25度之间。

9.根据权利要求8所述的半导体制程用的降温系统,其特征在于,所述降温模块的数量为多个,所述输液管的数量为多个,所述多个降温模块及所述多个输液管并联连接所述供水模块。

10.根据权利要求8所述的半导体制程用的降温系统,其特征在于,还包括至少两个管件,所述多个管件的一端连接所述多个输液管,而所述多个管件的另一端连接所述多个水冷排结构。

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