[实用新型]半导体制程用的降温结构及其降温系统有效
| 申请号: | 202020742140.7 | 申请日: | 2020-05-08 |
| 公开(公告)号: | CN212013385U | 公开(公告)日: | 2020-11-24 |
| 发明(设计)人: | 张宝曜;张宝杰;江明翰 | 申请(专利权)人: | 博斯科技股份有限公司 |
| 主分类号: | H05K7/20 | 分类号: | H05K7/20;H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 许静;安利霞 |
| 地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 半导体 制程用 降温 结构 及其 系统 | ||
1.一种半导体制程用的降温结构,其特征在于,包括:
一降温模块,所述降温模块包括一载台,所述载台呈圆盘状,且所述载台介于6寸至16寸之间,所述载台的工作温度介于0度至50度之间,所述载台的一侧面放置至少一待测物,所述载台的另一侧面设置至少一制冷芯片,所述制冷芯片的一侧面连接至少两个水冷排结构,所述载台通过多个连接件锁固连接所述多个水冷排结构,使所述制冷芯片稳固于所述载台及所述多个水冷排结构之间;
一温度控制模块,所述温度控制模块电性连接所述降温模块,所述温度控制模块调节所述制冷芯片的工作温度;以及
一电源供应模块,所述电源供应模块提供电能给所述降温模块及所述温度控制模块。
2.根据权利要求1所述的半导体制程用的降温结构,其特征在于,所述载台的厚度介于0.8公分至1公分之间。
3.根据权利要求1所述的半导体制程用的降温结构,其特征在于,所述多个水冷排结构的轮廓形状选自圆形或矩形的其中之一,而所述多个水冷排结构内部的结构呈连续弯曲设置或呈环绕设置。
4.根据权利要求1所述的半导体制程用的降温结构,其特征在于,所述载台的材质为铝。
5.根据权利要求1所述的半导体制程用的降温结构,其特征在于,所述载台的一侧面设置多个制冷芯片,所述多个制冷芯片为并联设置,所述多个制冷芯片平均分布在所述载台的一侧面。
6.根据权利要求1所述的半导体制程用的降温结构,其特征在于,所述制冷芯片的形状为扇形。
7.根据权利要求1所述的半导体制程用的降温结构,其特征在于,所述载台的周围穿设多个穿孔,而所述多个水冷排结构的周围穿设多个连接孔,所述多个穿孔对应所述多个连接孔,所述多个连接件为螺丝,所述多个连接件分别穿设所述多个穿孔及所述多个连接孔,使所述载台锁固连接所述多个水冷排结构。
8.一种半导体制程用的降温系统,其特征在于,包括:
至少一降温模块,所述降温模块包括一载台,所述载台呈圆盘状,且所述载台介于6寸至16寸之间,所述载台的工作温度介于0度至50度之间,所述载台的一侧面放置至少一待测物,所述载台的另一侧面设置至少一制冷芯片,所述制冷芯片的一侧面连接至少两个水冷排结构,所述载台通过多个连接件锁固连接所述多个水冷排结构,使所述制冷芯片稳固于所述载台及所述多个水冷排结构之间;
至少一温度控制模块,所述温度控制模块电性连接所述降温模块,所述温度控制模块调节所述多个制冷芯片的工作温度;
一电源供应模块,所述电源供应模块提供电能给所述降温模块及所述温度控制模块;以及
一供水模块,所述供水模块连接所述降温模块,所述供水模块包括至少两个输液管,所述多个输液管连接所述多个水冷排结构,使所述供水模块与所述多个水冷排结构相连通,并且形成循环回路,所述供水模块提供一工作液体给所述多个水冷排结构,所述工作液体的工作温度介于18度至25度之间。
9.根据权利要求8所述的半导体制程用的降温系统,其特征在于,所述降温模块的数量为多个,所述输液管的数量为多个,所述多个降温模块及所述多个输液管并联连接所述供水模块。
10.根据权利要求8所述的半导体制程用的降温系统,其特征在于,还包括至少两个管件,所述多个管件的一端连接所述多个输液管,而所述多个管件的另一端连接所述多个水冷排结构。
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