[实用新型]一种SiO2基底镀Y2O3膜用夹具

说明书

本实用新型涉及蒸发镀膜技术领域，具体而言，涉及一种SiO2基底镀Y2O3膜用夹具，包括底板、压环和设于底板的用于压紧压环的压紧组件；底板的载物面沿径向开设有滑槽，滑槽底部开设有多个销孔，多个销孔沿径向排列；压紧组件包括压板、弹性压紧件和弹簧销，压板卡设于滑槽且压板可沿滑槽的延伸方向滑动；弹簧销设于压板靠近滑槽槽底的一板面，且弹簧销卡设于销孔，以固定压板；在本实用新型中，在底板的径向上设置有多个销孔，通过将压紧组件上的弹簧销固定在不同的销孔中，调节弹性压紧件与底板中心的间距，再配合相应尺寸的压环，可对不同尺寸的物件进行镀膜，提高了夹具的适用范围，在使用时，只需要更换压环即可，使用方便。

技术领域

本实用新型涉及蒸发镀膜技术领域，具体而言，涉及一种SiO₂基底镀Y₂O₃膜用夹具。

背景技术

半导体刻蚀技术是一种商业化的技术，在刻蚀过程中，腔室内充满等离子气体，腔室内壁以及零部件表面必然会与等离子气体接触，导致零部件杯腐蚀，并对所产品造成污染。为降低产品被污染的几率，目前，多是通过对腔室的内壁、零部件的表面进行镀膜处理，提高腔室以及零部件表面的耐腐蚀性。SiO₂基底是一种半导体刻蚀过程中所用的零部件，为提高SiO₂基底的耐腐蚀性，通过蒸发镀膜的方式，在SiO₂基底镀上一层Y₂O₃膜。在覆膜过程中，需通过夹具将SiO₂基底固定，但现有的固定夹具的结构单一，仅能适用于一种尺寸的基底，通用性较弱，对不同尺寸或者异形基底进行镀膜时，需要更换不同的夹具，操作较为繁琐。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种SiO₂基底镀Y₂O₃膜用夹具，提高夹具的通用性，可用于固定不同尺寸的基底，使用方便。

本实用新型提供了一种SiO₂基底镀Y₂O₃膜用夹具，包括底板、压环和设于所述底板的用于压紧所述压环的压紧组件；

所述底板的载物面沿径向开设有滑槽，所述滑槽底部开设有多个销孔，多个所述销孔沿径向排列；

所述压紧组件包括压板、弹性压紧件和弹簧销，所述压板卡设于所述滑槽且所述压板可沿所述滑槽的延伸方向滑动；所述弹簧销设于所述压板靠近滑槽槽底的一板面，且所述弹簧销卡设于所述销孔，以固定所述压板；

所述压紧组件设于所述压板靠近所述底板中心的一端，所述弹性压紧件包括压块、连接轴和限位块，所述连接轴的一端与所述压块的一板面固定连接，所述连接轴的另一端与所述限位块连接；所述压板沿所述底板的轴向开设有通孔，所述连接轴贯穿所述通孔，且可沿所述通孔的轴向滑动，所述通孔内壁开设有环形槽，所述连接轴套设有弹簧，所述弹簧靠近所述压块的一端与所述连接轴固定连接，所述弹簧的另一端抵接于所述环形槽的槽壁；所述压环的上端面抵接于所述压块，所述压环的下端面抵接于所述底板。

进一步的，所述压紧组件至少为四个，四个所述压紧组件成环形阵列分布于所述底板的载物面。

进一步的，所述压环为圆环状或者矩形环状。

进一步的，所述弹簧销为多个，多个所述弹簧销沿所述底板径向排列，且相邻的弹簧销的间距等于相邻所述销孔的间距。

进一步的，所述滑槽的宽度为a，所述压块宽度b，其中b＞a。

进一步的，所述压花的材质为SiO₂，采用SiO2的压环，其材质与SiO2基底相同，在加热过程和冷却过程中，压环与基底的热膨胀系数相同，不易造成压环的松动，使得基底固定的更加牢固。

与现有技术相比，本实用新型具有以下有益效果：