[实用新型]一种密封驱动装置及原子层沉积设备

说明书

本实用新型公开了一种密封驱动装置及原子层沉积设备，其中，所述密封驱动装置包括：壳体，所述壳体用于形成真空室；波纹管，所述波纹管靠近所述壳体的一端设置有法兰，所述法兰固定于所述壳体外表面上；驱动轴，所述驱动轴一端依次穿过所述波纹管、法兰以及壳体以伸入所述真空室中，所述驱动轴另一端位于所述真空室外并与所述波纹管密封设置，本实用新型保证了真空室的气密性，并且降低了生产成本。

技术领域

本实用新型涉及原子层沉积技术领域，特别涉及到一种密封驱动装置及原子层沉积设备。

背景技术

现有技术中，原子层沉积工艺需要在真空室内进行，原子层沉积工艺就是在基材的传送过程中，在基材表面不断沉积单层原子层；基材在传送过程中可能出现位置偏置，需要对基材进行纠偏，现有的放置在真空室内的纠偏驱动设备价格昂贵、成本较高。

实用新型内容

本实用新型的主要目的是提出一种密封驱动装置，旨在解决现有技术中放置在真空室内的纠偏驱动设备成本较高的技术问题。

为实现上述目的，本实用新型提出的一种密封驱动装置，所述密封驱动装置包括：壳体，所述壳体用于形成真空室；波纹管，所述波纹管靠近所述壳体的一端设置有法兰，所述法兰固定于所述壳体外表面上；驱动轴，所述驱动轴一端依次穿过所述波纹管、法兰以及壳体以伸入所述真空室中，所述驱动轴另一端位于所述真空室外并与所述波纹管密封设置。

进一步地，所述法兰与所述壳体外表面之间设置有第一O型密封圈。

进一步地，所述壳体上开设有供所述驱动轴伸入所述真空室的过孔，所述过孔的孔径大于所述驱动轴的直径。

进一步地，所述密封驱动装置还包括：KF法兰，所述KF法兰设置于所述驱动轴在所述真空室外的一端，所述波纹管远离所述壳体一端伸入所述KF 法兰中，以实现所述波纹管与所述驱动轴之间的密封。

进一步地，所述密封驱动装置还包括：密封圈支架，所述密封圈支架呈环形并套设于所述驱动轴上；第二O型密封圈，所述第二O型密封圈设置于所述密封圈支架与所述KF法兰内壁之间。

进一步地，所述密封驱动装置还包括：驱动件，所述驱动件与所述驱动轴位于所述真空室外的一端连接。

进一步地，所述驱动件为电缸。

进一步地，所述法兰与所述壳体外表面螺纹连接。

进一步地，所述驱动轴的驱动方向为所述驱动轴的轴向。

为实现上述目的，本实用新型还提供一种原子层沉积设备，所述原子层沉积设备包括：如上述任一项所述的密封驱动装置；传送装置，所述传送装置设置于所述真空室内，所述传送装置用于传送原子层沉积基材，所述传送装置与所述真空室的内壁滑动连接，所述驱动轴连接至所述传送装置，以对所述传送装传送的原子层沉积基材进行位置纠偏。

本实用新型中，所述壳体用于形成进行原子层沉积工艺的真空室，所述波纹管具有可伸缩性，所述波纹管靠近所述壳体的一端设置有法兰，所述法兰固定于所述壳体外表面上，从而通过所述法兰实现所述波纹管与所述壳体之间的相对固定和相对密封，所述驱动轴依次穿过所述波纹管、法兰以及壳体以伸入所述真空室中，以对所述真空室内的用于传送原子层沉积基材的传送装置进行位置纠偏，所述驱动轴另一端位于所述真空室外并与所述波纹管密封设置，从而实现所述密封驱动装置的部分结构(波纹管、法兰以及驱动轴伸出所述真空室的一端)设置于所述真空室外，另一部分机构(所述驱动轴伸入所述真空室的一端)设置于所述真空室内，并通过所述法兰以及所述波纹管实现了所述真空室的持续密封，保证了真空室的气密性，降低了生产成本。

附图说明