[实用新型]一种密封驱动装置及原子层沉积设备

权利要求书

1.一种密封驱动装置，其特征在于，所述密封驱动装置包括：

壳体，所述壳体用于形成真空室；

波纹管，所述波纹管靠近所述壳体的一端设置有法兰，所述法兰固定于所述壳体外表面上；

驱动轴，所述驱动轴一端依次穿过所述波纹管、法兰以及壳体以伸入所述真空室中，所述驱动轴另一端位于所述真空室外并与所述波纹管密封设置。

2.如权利要求1所述的密封驱动装置，其特征在于，所述法兰与所述壳体外表面之间设置有第一O型密封圈。

3.如权利要求1所述的密封驱动装置，其特征在于，所述壳体上开设有供所述驱动轴伸入所述真空室的过孔，所述过孔的孔径大于所述驱动轴的直径。

4.如权利要求1所述的密封驱动装置，其特征在于，所述密封驱动装置还包括：

KF法兰，所述KF法兰设置于所述驱动轴在所述真空室外的一端，所述波纹管远离所述壳体一端伸入所述KF法兰中，以实现所述波纹管与所述驱动轴之间的密封。

5.如权利要求4所述的密封驱动装置，其特征在于，所述密封驱动装置还包括：

密封圈支架，所述密封圈支架呈环形并套设于所述驱动轴上；

第二O型密封圈，所述第二O型密封圈设置于所述密封圈支架与所述KF法兰内壁之间。

6.如权利要求1-5任一项所述的密封驱动装置，其特征在于，所述密封驱动装置还包括：

驱动件，所述驱动件与所述驱动轴位于所述真空室外的一端连接。

7.如权利要求6所述的密封驱动装置，其特征在于，所述驱动件为电缸。

8.如权利要求1所述的密封驱动装置，其特征在于，所述法兰与所述壳体外表面螺纹连接。

9.如权利要求1所述的密封驱动装置，其特征在于，所述驱动轴的驱动方向为所述驱动轴的轴向。

10.一种原子层沉积设备，其特征在于，所述原子层沉积设备包括：

如权利要求1-9任一项所述的密封驱动装置；

传送装置，所述传送装置设置于所述真空室内，所述传送装置用于传送原子层沉积基材，所述传送装置与所述真空室的内壁滑动连接，所述驱动轴连接至所述传送装置，以对所述传送装传送的原子层沉积基材进行位置纠偏。