[实用新型]一种化学机械平坦化设备

权利要求书

1.一种化学机械平坦化设备，晶圆(2)与抛光垫(1)接触时，所述晶圆(2)上具有接触区域(3)，其特征在于，该平坦化设备上设有喷液组件(4)，所述喷液组件(4)具有至少一个出液口(5)，从所述出液口(5)喷出的液体均匀地分布在所述接触区域(3)上；

所述喷液组件(4)相对所述抛光垫(1)移动设置，所述喷液组件(4)的移动轨迹与所述晶圆(2)相对所述抛光垫(1)的移动轨迹相同。

2.根据权利要求1所述的化学机械平坦化设备，其特征在于，所述喷液组件(4)相对所述晶圆(2)在所述移动轨迹上，位于所述晶圆(2)的前方。

3.根据权利要求2所述的化学机械平坦化设备，其特征在于，所述喷液组件(4)包括与所述抛光垫(1)接触的修整端(41)，所述出液口(5)位于所述修整端(41)上。

4.根据权利要求3所述的化学机械平坦化设备，其特征在于，所述出液口(5)设于所述修整端(41)的外周壁上。

5.根据权利要求4所述的化学机械平坦化设备，其特征在于，所述出液口(5)为多个，且沿所述修整端(41)的外周壁均匀分布。

6.根据权利要求5所述的化学机械平坦化设备，其特征在于，所述出液口(5)设于所述修整端(41)的底部。

7.根据权利要求3-6中任一项所述的化学机械平坦化设备，其特征在于，所述喷液组件(4)还包括相对所述抛光垫(1)移动的移动臂(43)，所述移动臂(43)上设置有所述修整端(41)，所述移动臂(43)内设置有与所述出液口(5)连通的输液管路。

8.根据权利要求7所述的化学机械平坦化设备，其特征在于，所述移动臂(43)上设置有所述出液口(5)。

9.一种化学机械平坦化设备，晶圆(2)与抛光垫(1)接触时，所述晶圆(2)上具有接触区域(3)，其特征在于，该平坦化设备上设有喷液组件(4)，所述喷液组件(4)具有至少一个出液口(5)，从所述出液口(5)喷出的液体均匀地分布在所述接触区域(3)上；

所述喷液组件(4)在接触区域(3)的周边摆动，所述周边摆动为喷液组件(4)在接触区域(3)的附近按照预定的周期进行摆动。