[实用新型]一种真空镀膜机用基片翻转结构有效
| 申请号: | 202020571522.8 | 申请日: | 2020-04-17 |
| 公开(公告)号: | CN211999901U | 公开(公告)日: | 2020-11-24 |
| 发明(设计)人: | 骆海伟 | 申请(专利权)人: | 东莞市伟信真空服务有限公司 |
| 主分类号: | C23C14/50 | 分类号: | C23C14/50 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 523820 广东省东莞*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 真空镀膜 机用基片 翻转 结构 | ||
本实用新型公开了一种真空镀膜机用基片翻转结构,包括用于进行镀膜工作的主体、用于承载基片的活动式承载结构、用于对活动式承载结构进行辅助翻转工作的翻转组件以及用于对基片进行限位固定的抵接固定结构,所述主体的内部设置有镀膜空腔,所述活动式承载结构包括承载板,所述承载板的上表面设置有多个贯穿其上下端的放置槽,且所述放置槽呈倒转的凸字型,所述承载板的两侧分别通过连接件与主体的内部两侧活动连接,且所述承载板的一端连接贯穿延伸至主体的外部,所述翻转组件安装于主体的外部一侧。本实用新型结构简单,使用方便,对基片固定放置时工作效率较高,且在基片翻转时,对基片的保护效果较好,不易造成基片的损坏。
技术领域
本实用新型涉及真空镀膜机领域,具体为一种真空镀膜机用基片翻转结构。
背景技术
真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种,主要思路是分成蒸发和溅射两种,而在使用真空镀膜机对基片的双面进行镀膜工作时,需要用到翻转结构。
但是,现有的翻转结构存在以下缺点:
1、由于需要对基片进行翻转的操作,而翻转结构中的承载结构不便于对多个基片进行快速的限位固定,导致在固定放置基片时费时费力,效率较低。
2、在对基片进行翻转工作时,基片可能会受到翻转组件中驱动源所传递过来的震动,导致基片易出现损坏的情况,造成不必要的损失。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种真空镀膜机用基片翻转结构,以解决传统的翻转结构由于需要对基片进行翻转的操作,而翻转结构中的承载结构不便于对多个基片进行快速的限位固定,导致在固定放置基片时费时费力,效率较低,且在对基片进行翻转工作时,基片可能会受到翻转组件中驱动源所传递过来的震动,导致基片易出现损坏的情况,造成不必要损失的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种真空镀膜机用基片翻转结构,包括用于进行镀膜工作的主体、用于承载基片的活动式承载结构、用于对活动式承载结构进行辅助翻转工作的翻转组件以及用于对基片进行限位固定的抵接固定结构,所述主体的内部设置有镀膜空腔,所述活动式承载结构包括承载板,所述承载板的上表面设置有多个贯穿其上下端的放置槽,且所述放置槽呈倒转的凸字型,所述承载板的两侧分别通过连接件与主体的内部两侧活动连接,且所述承载板的一端连接贯穿延伸至主体的外部,所述翻转组件安装于主体的外部一侧,且所述翻转组件的输出端与承载板贯穿延伸至主体外部的一侧固定连接,所述抵接固定结构安装于承载板的上端表面,且所述抵接固定结构靠近于放置槽。
优选的,所述翻转组件包括安装板和电机,所述安装板垂直固定安装于主体的外部一侧,所述电机固定安装于安装板的上端表面,且所述电机的输出端与承载板贯穿延伸至主体外部的一侧固定连接。
优选的,所述抵接固定结构包括安装座、固定板、移动板以及紧固旋钮,所述安装座垂直固定安装于承载板的上端表面,所述固定板垂直固定安装与安装座远离于放置槽的一侧,所述移动板的顶部通过多个伸缩连接杆A与固定板的底部固定连接,所述紧固旋钮的一端通过螺纹连接贯穿安装座的上表面,且所述紧固旋钮贯穿安装座的一端通过轴承与移动板的顶部活动连接,所述安装座的一侧竖直开设有多个贯穿其前后两侧的移动槽,所述移动板靠近于安装座的一侧设置有多个第一压板,多个所述第一压板分别贯穿多个移动槽延伸至安装座靠近于放置槽的一侧,多个所述第一压板两两一组分别位于多个放置槽上方靠近其左右两侧处,多个所述第一压板的底部均安装有减震限位固定组件。
优选的,所述减震限位固定组件包括减震弹簧和第二压板,所述减震弹簧的顶部与第一压板的底部固定连接,所述第二压板的顶部与减震弹簧的底部固定连接,且所述第二压板的纵向长度与放置槽的内部纵向长度相匹配。
优选的,所述减震弹簧的内部设置有伸缩连接杆B。
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