[实用新型]晶圆清洗机防脱落装置有效

专利信息
申请号: 202020409426.3 申请日: 2020-03-27
公开(公告)号: CN212370666U 公开(公告)日: 2021-01-19
发明(设计)人: 田英干 申请(专利权)人: 嘉兴晶装电子科技股份有限公司
主分类号: B08B3/02 分类号: B08B3/02;B08B13/00;H01L21/67
代理公司: 嘉兴启帆专利代理事务所(普通合伙) 33253 代理人: 王大国
地址: 314199 浙江省嘉兴市嘉*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 清洗 脱落 装置
【说明书】:

实用新型公开了晶圆清洗机防脱落装置,包括底座,所述底座的内侧壁底部位置设置有动滑轮,所述底座的内侧壁顶部位置设置有动滑轮,所述动滑轮与动滑轮之间设置有安全绳,所述安全绳的一端安装有移动板,所述移动板的上端设置有旋转台,旋转台的上表面固定连接有支撑杆体,所述支撑杆体的侧壁设置有晶圆主体,所述支撑杆体的一侧侧壁设置有防护箱,所述防护箱的内部设置有转动轮,所述转动轮的内侧壁转动连接有棘爪,所述转动轮的内部设置有棘轮,所述棘爪的一端卡接在棘轮的内部,所述棘轮的内部固定连接有螺栓杆。本实用新型增加防护结构,避免其脱落,可以调节清洗台的高度,保证清洗效果和晶圆的产品质量。

技术领域

本实用新型涉及晶圆清洗技术领域,尤其涉及晶圆清洗机防脱落装置。

背景技术

随着半导体技术的发展,半导体器件的集成度越来越高,对晶圆表面的清洗要求也越来越高,晶圆是指硅半导体集成电路制作所用的硅晶片,通常采用晶圆清洗机台对晶圆进行清洗,晶圆单片式清洗过程中,利用清洗设备的旋转结构带动晶圆旋转,化学清洗液通过喷嘴从腔体上方喷洒在晶圆表面,使用完的清洗液经旋转甩出。

现有的晶圆清洗机结构功能单一,在对晶圆进行清洗时,不可以调节清洗台的高度,液体喷管与清洗台之间的距离会直接影响到清洗效果和晶圆的产品质量,而且清洗台不具有防护结构,晶圆在清洗的过程中,操作不当容易脱落损坏,设计不合理。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的晶圆清洗机防脱落装置。

为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:

晶圆清洗机防脱落装置,包括底座,所述底座的内侧壁底部位置设置有动滑轮,所述底座的内侧壁顶部位置设置有动滑轮,所述动滑轮与动滑轮之间设置有安全绳,所述安全绳的一端安装有移动板,所述移动板的上端设置有旋转台,旋转台的上表面固定连接有支撑杆体,所述支撑杆体的侧壁设置有晶圆主体,所述支撑杆体的一侧侧壁设置有防护箱,所述防护箱的内部设置有转动轮,所述转动轮的内侧壁转动连接有棘爪,所述转动轮的内部设置有棘轮,所述棘爪的一端卡接在棘轮的内部,所述棘轮的内部固定连接有螺栓杆,所述螺栓杆的表面转动连接有螺母套,所述防护箱的下表面固定连接有中间座,所述中间座的下方设置有定圈体和动圈体。

优选的,所述中间座的下表面开设有工形滑槽,所述工形滑槽的内部滑动连接有工形滑块。

优选的,所述防护箱的一侧侧壁开设有调节槽口,所述螺栓杆的两端与防护箱的内侧壁转动连接,所述螺母套的一侧侧壁设置有竖杆,所述竖杆的下端贯穿防护箱的内部。

优选的,所述底座的内部插接有液体管,所述旋转台的上表面固定连接有支撑杆体,所述支撑杆体设置在晶圆主体的侧壁。

优选的,所述底座的内侧壁开设有通槽,所述移动板的一端贯穿通槽的内部。

优选的,所述定圈体和动圈体的内侧壁均固定连接有橡胶防损垫,所述晶圆主体设置在定圈体和动圈体直接。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:

1、本实用新型中,通过调节转动轮,转动轮通过棘爪带动棘轮转动,从而棘轮内部的螺栓杆转动,螺母套在螺栓杆的带动下平移,定圈体和动圈体可以将晶圆主体加固,增加防护结构,避免其脱落,棘爪的一端与棘轮卡接,有效避免装置回转,结构稳定。

2、本实用新型中,动滑轮转动,通过动滑轮对安全绳进行收卷,可以改变移动板的高度,从而可以调节清洗台的高度,保证清洗效果和晶圆的产品质量,通过工形滑块在工形滑槽的内部移动,可以保证动圈体移动的稳定性。

附图说明

图1为本实用新型提出的晶圆清洗机防脱落装置的结构示意图;

图2为本实用新型提出的晶圆清洗机防脱落装置的防护箱的结构示意图;

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