[实用新型]一种再加工发光陶瓷砖有效

专利信息
申请号: 202020386732.X 申请日: 2020-03-24
公开(公告)号: CN212051152U 公开(公告)日: 2020-12-01
发明(设计)人: 方显峰 申请(专利权)人: 方显峰
主分类号: C04B41/89 分类号: C04B41/89;C03C8/00;B28D1/00;B28D1/22;B28D1/18
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 321100 浙江省金华市兰溪市上*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 再加 发光 陶瓷砖
【权利要求书】:

1.一种再加工发光陶瓷砖,其主体包括底坯层(1)、底釉层(2)、发光釉面层(3),其特征在于:所述的底坯层(1)为吸水率在0.5~10%之间的炻质坯体层,所述的底釉层(2)为白色釉料反射层,设在底坯层(1)的上方,所述的发光釉面层(3)为长余辉发光材料与透明釉料掺混的烧结釉面层,设在底釉层(2)的上方;所述的陶瓷砖主体上还设有烧结后再加工的非贯穿型的凹槽、凹陷区位或孔洞(4a),或/和陶瓷砖主体上还设有烧结后再加工的贯穿型的区块或孔洞(4b);所述的贯穿型的区块或孔洞(4b)内设有与陶瓷砖主体不同体色的陶瓷散件(6)或/和与陶瓷砖主体不同发光颜色的陶瓷散件(6),所述的陶瓷散件(6)的侧边通过粘结剂(5)与陶瓷砖主体的贯穿型区块或孔洞(4b)的侧边结合成整体结构。

2.根据权利要求1所述的一种再加工发光陶瓷砖,其特征在于:所述的非贯穿型的凹槽、凹陷区位或孔洞(4a)的深度小于或等于发光釉面层(3)的厚度。

3.根据权利要求1所述的一种再加工发光陶瓷砖,其特征在于:所述的非贯穿型的凹槽、凹陷区位或孔洞(4a)内还设有粘结剂(5)的固化成型物、或粘结剂(5)和功能填充物(7)结合为一体的固化成型物。

4.一种再加工发光陶瓷砖,其特征在于:其主体为非发光无机砖,所述的非发光无机砖上设有再加工的非贯穿型的区块或孔洞(4a),或/和非发光无机砖上设有再加工的贯穿型的区块或孔洞(4b);所述的非贯穿型的区块或孔洞(4a)或/和贯穿型的区块或孔洞(4b)内设有发光陶瓷散件(6),其中的发光陶瓷散件(6)包括底坯层(1)、底釉层(2)、发光釉面层(3),所述的底坯层(1)为吸水率在0.5~10%之间的炻质坯体层,所述的底釉层(2)为白色釉料反射层,设在底坯层(1)的上方,所述的发光釉面层(3)为长余辉发光材料与透明釉料掺混的烧结釉面层,设在底釉层(2)的上方;陶瓷散件(6)的侧边通过粘结剂(5)与陶瓷砖主体的非贯穿型的区块或孔洞(4a)或/和贯穿型区块或孔洞(4b)的侧边结合成整体结构,或/和陶瓷散件(6)的底面与通过粘结剂(5)与陶瓷砖主体的非贯穿型的区块或孔洞(4a)的底面结合成整体结构。

5.根据权利要求4所述的一种再加工发光陶瓷砖,其特征在于:所述的非发光无机砖为表面具有防滑结构的无机砖;或者所述的陶瓷散件(6)上还设有非贯穿型的凹槽、凹陷区位或孔洞(4a);或者所述的陶瓷散件(6)上还设有非贯穿型的凹槽、凹陷区位或孔洞(4a),非贯穿型的凹槽、凹陷区位或孔洞(4a)内还设有粘结剂(5)的固化成型物、或粘结剂(5)和功能填充物(7)结合为一体的固化成型物。

6.根据权利要求4所述的一种再加工发光陶瓷砖,其特征在于:所述的贯穿型的区块或孔洞(4b)内设有不同发光颜色的两块或多块发光陶瓷散件(6)。

7.根据权利要求1或4所述的一种再加工发光陶瓷砖,其特征在于:所述的非贯穿型或/和贯穿型的凹槽为条状或块状凹槽,或者非贯穿型的凹槽、凹陷区位或孔洞(4a)或/和贯穿型的区块或孔洞(4b)为形成文字、字母、数字、符号、图案的形状。

8.根据权利要求1或4所述的一种再加工发光陶瓷砖,其特征在于:所述的发光釉面层(3)上方还设有由透明釉料烧制成的透明光釉层;或者所述的再加工发光陶瓷砖的底部带有凹凸纹。

9.根据权利要求1或4所述的一种再加工发光陶瓷砖,其特征在于:所述的再加工陶瓷砖的底部为与结构胶固化为一体的网格加强层;或者所述的再加工发光陶瓷砖的底部还设有底板;或者所述的再加工发光陶瓷砖底部还设有底板,所述的底板通过与结构胶固化为一体的网格加强层与底坯层(1)结合;或者所述的再加工发光陶瓷砖四周还设有围边。

10.根据权利要求1或4所述的一种再加工发光陶瓷砖,其特征在于:所述的底坯层(1)的厚度为6mm~20mm,所述的底釉层(2)的厚度为0.2mm~1.5mm,所述的发光釉面层(3)的厚度为1.5mm~6mm。

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