[实用新型]一种精准定位的纳米压印设备

说明书

本实用新型公开了一种精准定位的纳米压印设备，腔体内壁顶面通过支架固定装配有承压板，腔体的内腔顶部固定装配有紫外灯，承压板的中部开设有观察窗，承压板顶部四角处固定安装有线光源发射器，线光源发射器的光线于承压板中心位置交汇形成荧光标记，承压板的底面吸附有软膜，腔体内腔底面中部固定装配有带电机的升降装置，升降装置的上端通过加热底盘固定装配有托盘，托盘上端插接有定位器，托盘上端吸附有基板，本装置四角分布有线光源发射器，光线交汇形成荧光标记，下方的基片通过定位器进行位置的精准定位，通过对上下位置对应的软膜和基片分别进行精准定位，实现制备的印章与玻璃之间零偏差的效果，提高成品率。

技术领域

本实用新型涉及纳米压印技术领域，具体为一种精准定位的纳米压印设备。

背景技术

纳米压印技术是华裔科学家周郁在1995年发明的一项成本低廉、分辨率高的光刻技术。在纳米压印中，相当昂贵的光刻只需要用一次来制备印章，就可以大量生产复制品，因此纳米图案复制领域一直是各国科学家研究的热点，各种纳米压印设备也应运而生。

但是对于满结构的硅片来说，一旦制备的印章与玻璃存在偏差，复制品就会有部分结构丢失，成为废品，造成大量资源的浪费，相应的使得生产成体随之提高。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种精准定位的纳米压印设备，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种精准定位的纳米压印设备，包括腔体，且腔体设有铰接的门，所述腔体内壁顶面中部固定装配有支架，所述支架下端固定装配有承压板，所述腔体的内腔顶部固定装配有紫外灯，且紫外灯位于承压板正上方，所述承压板的中部开设有观察窗，所述承压板顶部四角处固定安装有线光源发射器，所述线光源发射器的光线于承压板中心位置交汇形成荧光标记，所述承压板的底面吸附有软膜，所述腔体内腔底面中部固定装配有电机，且电机上固定装配有匹配的升降装置，所述升降装置的上端固定装配有加热底盘，所述加热底盘的上端固定装配有托盘，所述托盘上端插接有定位器，所述托盘上端吸附有基板，且基板卡接于定位器内侧，所述基板与软膜平行、且上下对应。

优选的，所述托盘的顶面开设有环形真空槽，且环形真空槽的数量至少为两个，所述环形真空槽上吸附有基板，所述环形真空槽内均匀开设有微孔，且微孔通过通道与托盘外部相连通。

优选的，所述托盘边缘设有尺寸定位孔，所述尺寸定位孔内插接有定位器，所述定位器由两个一体形成的细杆组成，所述定位器的两个细杆之间夹角为120度，所述定位器细杆的内壁均与基板外侧壁贴合。

优选的，所述承压板的底面设有真空卡槽，所述软膜吸附于真空卡槽下方，所述真空卡槽内设有连通承压板外部的连通孔。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本方案设计了一种精准定位的纳米压印设备，本装置设有四个呈四角分布的线光源发射器，它们工作后在承压板中部交汇形成荧光标记，通过这个荧光标记辅助放置软膜，使得软膜中心点与荧光标记位置重叠，提高了软膜放置位置的精准性；下方的基片通过定位器进行位置的精准定位，保证基片放置位置的精准性，通过对上下位置对应的软膜和基片分别进行精准定位，实现制备的印章与玻璃之间零偏差的效果，解决上述问题，提高成品率，降低了生产成本。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图；

图2为本实用新型中承压板结构示意俯视图；

图3为本实用新型中托盘结构示意俯视图；

图4为本实用新型中基板和定位器装配结构示意图。

图中：1腔体、2紫外灯、3承压板、4支架、5线光源发射器、6软膜、7基板、8托盘、81环形真空槽、82微孔、83尺寸定位孔、84定位器、9加热底盘、10升降装置、11电机、12真空卡槽、13观察窗、14荧光标记。