[实用新型]薄型化光学指纹识别装置有效
| 申请号: | 202020274906.3 | 申请日: | 2020-03-09 |
| 公开(公告)号: | CN211480030U | 公开(公告)日: | 2020-09-11 |
| 发明(设计)人: | 郝志;张宜;杨振国;刘文涛;焉逢运;程泰毅 | 申请(专利权)人: | 上海思立微电子科技有限公司 |
| 主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146;G06K9/00 |
| 代理公司: | 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 | 代理人: | 徐颖聪 |
| 地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 薄型化 光学 指纹识别 装置 | ||
1.一种薄型化光学指纹识别装置,设置于检测区域下方,其特征在于,包括:
微透镜阵列,设有若干微透镜,聚集从所述检测区域朝向所述微透镜阵列反射回来携带指纹信息的光信号;
吸光层,设置有起光阑和吸光作用的第二开孔,设置于所述微透镜阵列下方;
光检测阵列,设置于所述吸光层下方,所述光检测阵列设有感光区域、第一开孔层和若干层金属层;所述感光区域包含若干个光电转换器件,所述第一开孔层设置有若干第一开孔,且和所述若干层金属层中一层金属位于同一层,所述第一开孔与所述微透镜一一对应;所述微透镜的焦点落在所述第一开孔或靠近所述第一开孔;所述第一开孔层在所述感光区域的投影覆盖所述光电转换器件的感光部分;其中,
所述携带指纹信号的光信号至少经过所述微透镜阵列中微透镜聚集后,经过所述第二开孔后进入所述光检测阵列,聚焦于与所述微透镜对应的所述第一开孔内或附近,透过所述第一开孔后到达所述光电转换器件的感光部分接收。
2.如权利要求1所述光学指纹识别装置,其特征在于,还包括:
滤光层,所述滤光层设置于所述光检测阵列表面,滤除非目标波段的光信号。
3.如权利要求2所述光学指纹识别装置,其特征在于,所述滤光层蒸镀于所述光检测阵列表面。
4.如权利要求1所述的光学指纹识别装置,其特征在于,所述吸光层中第二开孔与所述微透镜阵列中微透镜一一对应。
5.如权利要求1所述的光学指纹识别装置,其特征在于,所述吸光层中第二开孔与所述感光区域中光电转换器件一一对应。
6.如权利要求1所述的光学指纹识别装置,其特征在于,所述第一开孔层为金属材料制作,所述光检测阵列中顶层金属覆盖有钝化层。
7.如权利要求6所述的光学指纹识别装置,其特征在于,所述第一开孔层位于所述光检测阵列的顶层金属层中。
8.如权利要求7所述的光学指纹识别装置,其特征在于,所述微透镜与所述吸光层之间设置有第一预设厚度的第一介质层。
9.如权利要求7所述的光学指纹识别装置,其特征在于,所述钝化层至所述吸光层之间设置第二预设厚度的第二介质层。
10.如权利要求6所述的光学指纹识别装置,其特征在于,所述第一开孔层位于所述光检测阵列的底层金属层中。
11.如权利要求10所述的光学指纹识别装置,其特征在于,所述吸光层紧贴所述微透镜阵列设置。
12.如权利要求11所述的光学指纹识别装置,其特征在于,还包括滤光层,所述滤光层位于所述钝化层表面,所述吸光层设置于所述滤光层表面。
13.如权利要求1至11任一所述的光学指纹识别装置,其特征在于,所述吸光层的材质为黑胶、第一滤光层中的至少一种。
14.如权利要求13所述的光学指纹识别装置,其特征在于,所述第一滤光层包括第一子滤光层和第二子滤光层;所述第一子滤光层和第二子滤光层堆叠设置。
15.如权利要求1所述的光学指纹识别装置,其特征在于,所述光检测阵列中若干金属层之间设置介质层,所述介质层开有通孔,所述通孔中填充导电材料连接介质层上下的两层金属。
16.如权利要求1所述的光学指纹识别装置,其特征在于,所述第二开孔的开孔面积大于所述第一开孔的面积。
17.如权利要求16所述的光学指纹识别装置,其特征在于,所述第一开孔的为圆形。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





