[实用新型]一种直拉硅单晶用炉盖

权利要求书

1.一种直拉硅单晶用炉盖，包括盖体，其特征在于，在所述盖体靠近晶体一侧设有用于防止所述盖体直接长时间暴露在高温环境下形成游离的金属离子的叠层内衬，所述叠层内衬设置在所述盖体内壁并沿所述盖体径向圆周设置；所述叠层内衬包括内涂层和外涂层，所述内涂层靠近所述盖体设置，所述外涂层置于所述内涂层远离所述盖体一侧设置。

2.根据权利要求1所述的一种直拉硅单晶用炉盖，其特征在于，所述叠层内衬至少包括所述盖体位于水冷套上端口正上方一侧的区域。

3.根据权利要求2所述的一种直拉硅单晶用炉盖，其特征在于，所述叠层内衬还包括置于导流筒斜上方且沿水冷套外壁方向与所述盖体交叉的区域。

4.根据权利要求3所述的一种直拉硅单晶用炉盖，其特征在于，所述叠层内衬包括所述盖体内壁所有区域。

5.根据权利要求1-4任一项所述的一种直拉硅单晶用炉盖，其特征在于，所述内涂层和所述外涂层与所述盖体内壁相适配，均为环形结构。

6.根据权利要求5所述的一种直拉硅单晶用炉盖，其特征在于，所述内涂层厚度大于所述外涂层厚度。

7.根据权利要求6所述的一种直拉硅单晶用炉盖，其特征在于，所述内涂层厚度为30-50mm。

8.根据权利要求7所述的一种直拉硅单晶用炉盖，其特征在于，所述外涂层厚度为10-20mm。

9.根据权利要求1-4、6-8任一项所述的一种直拉硅单晶用炉盖，其特征在于，所述内涂层为二氧化硅涂层；所述外涂层为氢氧化钡涂层。