[实用新型]一种提高碳化硅晶体生长高度的热场加热装置有效

专利信息
申请号: 202020258393.7 申请日: 2020-03-05
公开(公告)号: CN211497868U 公开(公告)日: 2020-09-15
发明(设计)人: 汪良;王旻峰;付芬;邓树军 申请(专利权)人: 福建北电新材料科技有限公司
主分类号: C30B29/36 分类号: C30B29/36;C30B23/00
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 代理人: 汤东凤
地址: 362211 福建省泉州*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 提高 碳化硅 晶体生长 高度 加热 装置
【权利要求书】:

1.一种提高碳化硅晶体生长高度的热场加热装置,包括籽晶(1)、碳化硅原料(2)、坩埚(3)、晶体生长腔(4)、电阻加热器电极(5)、电阻组合式加热器(6)和保温材料层(7),其特征在于:所述坩埚(3)的内部空腔中填充有碳化硅原料(2),所述坩埚(3)的顶部内壁向内凸起,且内壁表面上设有籽晶(1),所述坩埚(3)的外部套接有组合式加热器(6),所述组合式加热器(6)由多个相互堆叠的电阻加热器(61)组成,所述电阻加热器(61)的两端为电阻加热器电极(5),所述坩埚(3)和组合式加热器(6)的外部包覆有保温材料层(7),所述电阻加热器电极(5)贯穿保温材料层(7)并向外延伸,多个所述电阻加热器电极(5)成螺旋状排布,所述保温材料层(7)的外侧设有晶体生长腔(4)。

2.根据权利要求1所述的一种提高碳化硅晶体生长高度的热场加热装置,其特征在于:所述电阻加热器(61)包括石墨电阻丝(611)和绝缘材料层(612),石墨电阻丝(611)的外部包覆有绝缘材料层(612)。

3.根据权利要求1所述的一种提高碳化硅晶体生长高度的热场加热装置,其特征在于:所述碳化硅原料(2)的表面与籽晶(1)间距为40-200mm。

4.根据权利要求1所述的一种提高碳化硅晶体生长高度的热场加热装置,其特征在于:所述保温材料层(7)为成型石墨毡。

5.根据权利要求2所述的一种提高碳化硅晶体生长高度的热场加热装置,其特征在于:所述绝缘材料层(612)位于坩埚(3)和石墨电阻丝(611)之间,绝缘材料层(612)为石墨棉板。

6.根据权利要求1所述的一种提高碳化硅晶体生长高度的热场加热装置,其特征在于:所述组合式加热器(6)中电阻加热器(61)的数量为10-50个。

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