[实用新型]一种组合式PVD镀膜靶材及PVD镀膜机有效
申请号: | 202020238511.8 | 申请日: | 2020-03-02 |
公开(公告)号: | CN212025441U | 公开(公告)日: | 2020-11-27 |
发明(设计)人: | 张凤戈;岳万祥;魏铁峰;缪磊;高众;姚伟 | 申请(专利权)人: | 北京安泰六九新材料科技有限公司;涿州安泰六九新材料科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/22 | 分类号: | C23C14/22 |
代理公司: | 北京五洲洋和知识产权代理事务所(普通合伙) 11387 | 代理人: | 荣红颖;冯娟 |
地址: | 100081 北京市海*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 组合式 pvd 镀膜 | ||
本实用新型提供一种组合式PVD镀膜靶材及PVD镀膜机,所述组合式PVD镀膜靶材包括材质不同的靶材本体和底座,所述靶材本体与所述底座分体设置,所述底座的第一端与所述靶材本体的一端连接,将所述底座与所述靶材本体组合为一体。本实用新型的组合式PVD镀膜靶材可以解决现有技术的脆性靶材与镀膜机安装配合时存在容易断裂的问题,有助于改善成膜质量,提高生产效率并降低成本。
技术领域
本实用新型涉及一种组合式PVD镀膜靶材及PVD镀膜机。
背景技术
物理气相沉积(PVD)技术,即在真空条件下,采用物理方法,将材料源—固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体),在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜,还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。
物理气相沉积技术工艺具有过程简单、对环境无污染、耗材少、成膜均匀致密,与基体的结合力强等优点,被广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域,可制备具有耐磨、耐腐蚀、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导等特性的膜层。
PVD技术可以制造多种膜层,而在制备不同膜层时,需要不同材质的靶材,因此,需要经常更换靶材,对于脆性材质的靶材,例如,纯金属圆形铬靶,在装配和使用的过程中,与镀膜机安装配合的部位存在容易断裂的问题,会影响成膜质量、生产效率和成本。
有鉴于此,特提出本申请。
实用新型内容
本实用新型的首要目的在于提供一种组合式PVD镀膜靶材。所述组合式 PVD镀膜靶材至少可以解决现有技术的脆性靶材与镀膜机安装配合时存在容易断裂的问题,有助于改善成膜质量,提高生产效率并降低成本。
为了实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:
一种组合式PVD镀膜靶材,组合式PVD镀膜靶材包括材质不同的靶材本体和底座,所述靶材本体与所述底座分体设置,所述底座的第一端与所述靶材本体的一端连接,将所述底座与所述靶材本体组合为一体。
作为一种实施方式,所述底座的第一端与所述靶材本体的一端螺纹连接、套合连接或卡合连接。
作为一种实施方式,所述底座包括底座本体和第二装配台阶,所述第二装配台阶自所述底座本体沿其轴向延伸;
所述第二装配台阶的中央部位设有凹槽,所述靶材本体的一端设于所述凹槽的内部。
作为另一种实施方式,进一步地,所述底座还包括第一装配台阶,所述第一装配台阶自所述底座本体沿其径向延伸,所述第二装配台阶设于所述第一装配台阶的内周。
作为一种实施方式,沿所述底座本体的轴向,所述第一装配台阶的高度与所述底座本体的高度相同,并低于所述第二装配台阶的高度;所述凹槽的内部和所述靶材本体的一端的外周设置匹配的螺纹结构。
作为一种实施方式,所述组合式PVD镀膜靶材可用作PVD镀膜机的靶材,所述组合式PVD镀膜靶材中,所述第一装配台阶和所述第二装配台阶的尺寸和所述底座与镀膜机的连接部位的尺寸相匹配。
作为一种实施方式,所述第一装配台阶为均匀分布于所述底座本体外周的若干个弧面结构,所述第二装配台阶为圆筒状结构,所述靶材本体为圆柱状结构。
作为一种实施方式,所述弧面结构沿所述底座本体的径向的外径为 160mm,所述圆筒状结构的外径为154mm,所述圆柱状结构的外径为150mm。
作为一种实施方式,所述底座采用304不锈钢、316不锈钢、铜合金或铝合金。
作为一种实施方式,所述靶材本体为纯Cr靶或含Cr合金靶材。
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